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標題: 工藝設計套件推進(jìn)創(chuàng )新 [打印本頁(yè)]

作者: eba    時(shí)間: 2017-12-25 11:26
標題: 工藝設計套件推進(jìn)創(chuàng )新
安森美半導體新的完整功能工藝設計套件,推進(jìn)無(wú)源器件制造的小型化和創(chuàng )新。我們提供各種工具給設計人員,使他們開(kāi)發(fā)出無(wú)線(xiàn)、便攜、和射頻器件應用的創(chuàng )新小巧解決方案。對于考慮采用集成無(wú)源器件 (IPD) 加速開(kāi)發(fā)或避免使用大型表貼器件 (SMD) 的設計人員,如今利用適用于 National Instruments 應用波研究 (AWR) 環(huán)境的 PDK 套件可以輕松完成設計。
今年發(fā)布的 NIAWR PDK 套件支持我們先進(jìn)的一流 IPD1 IPD2 工藝。此款PDK 套件配備完全可擴展的布局參數單元 (Pcell)、先進(jìn)布局實(shí)用程序以及準確的電磁 (EM) 仿真功能。此套件可應客戶(hù)要求供下載。
不熟悉IPD 設計?我們提供了設計示例和教程,逐步指導采用我們極好的 IPD 工藝。我們確保減少設計人員的布局時(shí)間。我們的符號和原理圖均兼容 Cadence。利用預定義的基板定義和預配置的設置,您可輕松愉快地完成 EM 仿真。
隨著(zhù)行業(yè)尋求更加小型的無(wú)線(xiàn)產(chǎn)品和高性能,我們的 IPD1 IPD2 工藝將更進(jìn)一步發(fā)展和獲得更廣泛應用。這種增長(cháng)已帶動(dòng)對 NIAWR 設計環(huán)境下 IPD PDK 的需求。我們的共同客戶(hù)可利用此新的PDK 縮短開(kāi)發(fā)周期,并加快部署創(chuàng )新的產(chǎn)品。
欲了解更多詳細信息,請參考鏈接:http://www.onsemi.cn/PowerSolutions/content.do?id=16699






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