針對高性能計算7納米 FinFET工藝,ARM與臺積電簽訂長(cháng)期戰略合作協(xié)議

發(fā)布時(shí)間:2016-3-16 14:02    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: FinFET , 7nm , ARM , 臺積電
ARM和臺積電宣布簽訂針對7納米 FinFET工藝技術(shù)的長(cháng)期戰略合作協(xié)議,涵蓋了未來(lái)低功耗,高性能計算SoC的設計方案。該合作協(xié)議進(jìn)一步擴展了雙方的長(cháng)期合作關(guān)系,并將領(lǐng)先的工藝技術(shù)從移動(dòng)手機延伸至下一代網(wǎng)絡(luò )和數據中心。此外,該協(xié)議還拓展了此前基于A(yíng)RM Artisan 基礎物理IP 的16納米 和10納米 FinFET工藝技術(shù)合作。

ARM全球執行副總裁兼產(chǎn)品事業(yè)群總裁 Pete Hutton表示:“現有基于A(yíng)RM的平臺已展現提升高達10倍運算密度的能力,用以支持特定數據中心的工作負載。未來(lái)的ARM技術(shù)將適用于數據中心和網(wǎng)絡(luò )基礎設施,并針對臺積電7納米 FinFET進(jìn)行優(yōu)化,從而幫助我們共同的客戶(hù)將行業(yè)最低功耗的架構應用于不同性能要求的領(lǐng)域!

臺積電研究發(fā)展副總經(jīng)理侯永清表示:“臺積電不斷投資先進(jìn)的工藝技術(shù),致力于幫助我們的客戶(hù)取得成功。憑借7納米 FinFET,我們的工藝和生態(tài)系統解決方案已從移動(dòng)手機拓展至高性能計算。 得益于臺積電行業(yè)領(lǐng)先的7納米 FinFET工藝,客戶(hù)在設計下一代高性能計算芯片時(shí),相比10納米 FinFET工藝節點(diǎn),能在相同功耗獲得更好性能表現,或者在相同性能表現的情況下,實(shí)現更低功耗。 聯(lián)合優(yōu)化的ARM和臺積電的解決方案有助于我們客戶(hù)推出顛覆性產(chǎn)品,并率先面向市場(chǎng)!

最新的合作協(xié)議基于A(yíng)RM和臺積電此前在16納米 FinFET和10納米 FinFET工藝上取得的成功。臺積電和ARM此前合作所取得的聯(lián)合創(chuàng )新,使客戶(hù)得以從最前沿的工藝技術(shù)和IP中獲益,以加快產(chǎn)品研發(fā)周期。例如,盡早獲取Artisan物理IP、以及試產(chǎn)16納米 FinFET 和 10納米 FinFET的ARM Cortex-A72處理器。

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