工藝設計套件推進(jìn)創(chuàng )新

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安森美半導體新的完整功能工藝設計套件，推進(jìn)無(wú)源器件制造的小型化和創(chuàng )新。我們提供各種工具給設計人員，使他們開(kāi)發(fā)出無(wú)線(xiàn)、便攜、和射頻器件應用的創(chuàng )新小巧解決方案。對于考慮采用集成無(wú)源器件 (IPD) 加速開(kāi)發(fā)或避免使用大型表貼器件 (SMD) 的設計人員，如今利用適用于 National Instruments 應用波研究 (AWR) 環(huán)境的 PDK 套件可以輕松完成設計。

今年發(fā)布的 NIAWR PDK 套件支持我們先進(jìn)的一流 IPD1 和 IPD2 工藝。此款PDK 套件配備完全可擴展的布局參數單元 (Pcell)、先進(jìn)布局實(shí)用程序以及準確的電磁 (EM) 仿真功能。此套件可應客戶(hù)要求供下載。

不熟悉IPD 設計？我們提供了設計示例和教程，逐步指導采用我們極好的 IPD 工藝。我們確保減少設計人員的布局時(shí)間。我們的符號和原理圖均兼容 Cadence。利用預定義的基板定義和預配置的設置，您可輕松愉快地完成 EM 仿真。

隨著(zhù)行業(yè)尋求更加小型的無(wú)線(xiàn)產(chǎn)品和高性能，我們的 IPD1 和 IPD2 工藝將更進(jìn)一步發(fā)展和獲得更廣泛應用。這種增長(cháng)已帶動(dòng)對 NIAWR 設計環(huán)境下 IPD PDK 的需求。我們的共同客戶(hù)可利用此新的PDK 縮短開(kāi)發(fā)周期，并加快部署創(chuàng )新的產(chǎn)品。

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