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Synopsys宣布，Synopsys Design Platform已通過(guò)全球領(lǐng)先半導體技術(shù)企業(yè)三星電子的工藝認證，支持三星代工部門(mén)的8nm LPP（低功耗+）工藝。Synopsys Design Platform可以為8LPP工藝的多次圖形曝光光刻技術(shù)和全顏色感知變化技術(shù)，提供完整的全流程支持。Synopsys的SiliconSmart庫表征工具是開(kāi)發(fā)認證過(guò)程和參考流程所需基礎IP的關(guān)鍵。認證過(guò)程還包括一套與Synopsys Lynx設計系統兼容的可擴展參考流程，流程包含自動(dòng)化腳本和設計最佳實(shí)踐案例。用戶(hù)可以通過(guò)三星先進(jìn)晶圓代工生態(tài)系統（SAFE）計劃獲得該參考流程。 三星電子代工業(yè)務(wù)營(yíng)銷(xiāo)副總裁Ryan Lee表示：“在行業(yè)切換到EUV（極紫外）光刻技術(shù)之前，我們的8LPP工藝可以提供最具競爭力的工藝優(yōu)勢。Synopsys一直是我們在新工藝節點(diǎn)研發(fā)和賦能方面首選的合作供應商。此次將8LPP在性能、功耗和邏輯門(mén)密度方面的優(yōu)勢，與Synopsys Design Platform的高質(zhì)量結果和時(shí)間優(yōu)勢相結合，可以使我們的共同客戶(hù)設計出滿(mǎn)足高性能、低功耗應用的最具競爭力的8LPP片上系統（SoC）產(chǎn)品�！� Synopsys設計事業(yè)群營(yíng)銷(xiāo)和業(yè)務(wù)開(kāi)發(fā)副總裁Michael Jackson表示：“行業(yè)領(lǐng)先的客戶(hù)已經(jīng)部署經(jīng)硅驗證的Synopsys Design Platform去設計和生產(chǎn)速度更快、功耗更低的8LPP芯片。我們的參考設計流程通過(guò)三星 SAFE計劃得到廣泛應用，讓設計人員可以快速、安心地通過(guò)Synopsys Design Platform切換到三星的8LPP工藝，充分利用8LPP更窄的金屬間距所帶來(lái)的結果質(zhì)量?jì)?yōu)勢�！� 基于A(yíng)rmv8-A 架構的64位Arm Cortex-A53處理器，可以對結果質(zhì)量（QoR）進(jìn)行優(yōu)化和流程認證。Synopsys Design Platform 8LPP參考流程的關(guān)鍵工具和功能包括： • IC Compiler II布局和布線(xiàn)：多次圖形曝光和顏色感知的物理實(shí)現流程，具有自動(dòng)化電源及接地（PG）綜合與設計內置的電壓降感知改進(jìn)。 • Design Compiler Graphical RTL綜合：具有布線(xiàn)擁塞改善和物理引導功能，與IC Compiler II密切關(guān)聯(lián)。 • DFTMAX和TetraMAX II測試：基于FinFET、單元感知，以及基于時(shí)序裕量的在速轉換測試，可獲得更高的測試質(zhì)量。 • Formality 形式驗證：基于UPF的等價(jià)性檢查，狀態(tài)轉換驗證。 • IC Validator signoff物理驗證：高性能的DRC signoff 、LVS感知的短路查找器、signoff 填充、模式匹配，以及獨特的設計內置（In-Design）驗證，可以在IC Compiler II中自動(dòng)修復DRC，以及實(shí)現準確感知時(shí)序的金屬填充。 • PrimeTime時(shí)序signoff: 具有模式合并、采用先進(jìn)波形傳播（AWP）的超低電壓時(shí)序signoff、參量化片上變化（POCV）分析和感知布局規則的工程變更指令（ECO）指導等功能。 • StarRC提�。憾啻螆D形曝光，全顏色感知變化和3D FinFET建模。 三星 SAFE計劃現在已可提供與Synopsys的Lynx設計系統兼容的經(jīng)認證的可擴展參考流程。Lynx設計系統是一個(gè)全芯片設計環(huán)境，包括創(chuàng )新的自動(dòng)化和報告功能，可幫助設計人員實(shí)施和監控其設計。它提供了一個(gè)生產(chǎn)級RTL-to-GDSII流程，可簡(jiǎn)化和自動(dòng)化完成許多關(guān)鍵的設計實(shí)現和驗證任務(wù)，使工程師能夠專(zhuān)注于實(shí)現性能和設計目標。三星 SAFE計劃提供了三星代工經(jīng)廣泛測試的工藝設計工具包（PDK）和參考流程（包含設計方法）。 |
