埃賦隆面向ISM應用推出業(yè)界最耐用的2kW RF功率LDMOS晶體管

發(fā)布時(shí)間:2019-5-9 10:14    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: LDMOS , 射頻功率 , ISM
埃賦隆半導體(Ampleon)現在宣布基于其成熟的第9代高壓LDMOS工藝技術(shù)派生出高級加固技術(shù)(Advanced Rugged Technology,ART),并借此開(kāi)發(fā)出新系列射頻功率器件中的首款產(chǎn)品。這個(gè)新工藝的開(kāi)發(fā)旨在用于實(shí)現極其堅固的、工作電壓高達65V的晶體管。



首款采用該工藝的產(chǎn)品ART2K0FE是一款2kW的晶體管,其頻率響應為0至650MHz,采用氣腔陶瓷封裝。其設計能夠承受工業(yè)、科學(xué)和醫療(ISM)應用中常見(jiàn)的最?lèi)毫拥臈l件,可用于驅動(dòng)大功率CO2激光器、等離子發(fā)生器和一些MRI系統。ART器件之所以適用于這些應用,是因為其可以處理65V條件下高達65:1的駐波比(VSWR)失配,而這在CO2激光器和等離子發(fā)生器工作時(shí)可能碰到。

基于A(yíng)RT工藝開(kāi)發(fā)的器件具有很高的阻抗,因此在開(kāi)發(fā)階段更容易將其集成到產(chǎn)品中,并確保在批量生產(chǎn)中具有更高的產(chǎn)品一致性。該工藝還可使所開(kāi)發(fā)的器件比LDMOS競爭產(chǎn)品更加高效。這樣便可通過(guò)節省輸入電能,降低發(fā)熱,來(lái)降低最終應用的運營(yíng)成本。此外,采用該工藝的器件還可實(shí)現更高的功率密度,也就是說(shuō),它們可以采用更小、更低成本的封裝,從而減少其電路板占位面積,進(jìn)而降低系統成本。

ART器件還具有高擊穿電壓,有助于確保它們在整個(gè)預期壽命期間始終如一地可靠工作。埃賦隆半導體還保證這類(lèi)器件可以供貨15年,從而使產(chǎn)品設計人員可以進(jìn)行長(cháng)期規劃。

采用氣腔陶瓷封裝的ART2K0FE現可提供樣品,并有不同頻率的參考電路可以選擇。埃賦隆半導體還提供較低熱阻的超模壓塑料版本ART2K0PE。兩種版本預計在2019年下半年量產(chǎn)。
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