2nm以下節點(diǎn)裝備競賽打響,臺積電魏哲家密訪(fǎng)ASML總部

發(fā)布時(shí)間:2024-5-28 16:33    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: 2nm , 臺積電 , 魏哲家 , ASML
來(lái)源:IT之家

根據韓媒 Business Korea 報道,臺積電首席執行官魏哲家撇開(kāi)了 5 月 23 日自家舉辦的“臺積電 2024 技術(shù)研討會(huì )”,前往荷蘭訪(fǎng)問(wèn)位于 Eindhoven 的 ASML 總部,以及訪(fǎng)問(wèn)德國 Ditzingen 的工業(yè)激光專(zhuān)業(yè)公司 TRUMPF。

ASML 首席執行官 Christophe Fouquet 和 TRUMPF 首席執行官 Nicola Leibinger-Kammüller 通過(guò)社交媒體透露了魏總秘密出訪(fǎng)的行蹤。



首席執行官 Fuke 表示:“我們向魏總介紹了我們的最新技術(shù)和新產(chǎn)品,包括高數值孔徑(High NA)EUV 設備將如何實(shí)現未來(lái)的半導體微處理技術(shù)”。

IT之家 5 月 14 日報道,臺積電張曉強博士于 5 月 14 日出席在阿姆斯特丹舉辦的技術(shù)研討會(huì ),他直言:“ASML 的 High-NA EUV 太貴了,我非常喜歡 High-NA EUV 的能力,但不喜歡它的價(jià)格”。

臺積電正考慮為劃于 2026 年下半年量產(chǎn)的 1.6 納米產(chǎn)品 A16 之后的工藝引入 High NA EUV 設備,同時(shí)在此之前使用現有 Low NA EUV 設備。
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