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單晶硅爐，也稱(chēng)全自動(dòng)直拉單晶生長(cháng)爐，是一種在惰性氣體（氮氣、氦氣為主）環(huán)境中，用石墨加熱器將多晶硅等多晶材料熔化，用直拉法生長(cháng)無(wú)錯位單晶的設備，將多晶硅原料放在爐體的石英坩堝內進(jìn)行高溫熔化（1450℃以上），在低真空度和氬氣保護下，通過(guò)紫晶插入多晶硅熔體后，在紫晶周?chē)纬蛇^(guò)冷態(tài)并進(jìn)行有規律生長(cháng)，形成一根單晶棒體。由主機、加熱電源和計算機控制系統三大部分組成。 直拉單晶爐可以用于生產(chǎn)硅、鎵、鍺等半導體材料的單晶，這些單晶材料被廣泛應用于集成電路、太陽(yáng)能電池和光電器件等領(lǐng)域。 （1）光伏行業(yè)發(fā)展：隨著(zhù)全球對可再生能源的需求增加，光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速。單晶爐作為光伏產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵設備，其市場(chǎng)需求將持續增長(cháng)。 （2）半導體行業(yè)發(fā)展：隨著(zhù)人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興技術(shù)的快速發(fā)展，半導體市場(chǎng)需求也在增加。單晶爐在半導體工業(yè)中起著(zhù)關(guān)鍵作用。通過(guò)生長(cháng)單晶硅棒，可以制備出高純度的硅單晶片，進(jìn)而用于制造集成電路（IC）和其他半導體器件，如太陽(yáng)能電池、光電二極管等。單晶爐也被廣泛應用于光學(xué)領(lǐng)域，可以制備出高質(zhì)量的光學(xué)元件，如激光晶體、光纖、光學(xué)窗口等，用于激光器、光通信、光學(xué)儀器等領(lǐng)域。 其中單晶爐及晶爐設備是需要在惰性氣體（氮氣、氦氣為主）環(huán)境中工作，需要很核心的器件流量控制器，去控制設備中的氣體需求量。 質(zhì)量流量控制器MFC不僅能測量氣體的流量，具備流量計的功能，其測量值不因 壓力或溫度的波動(dòng)而失準，不需要進(jìn)行壓力溫度修正;而且它還可以控制流量，本身具有檢測控制電路和流量調節閥，是一個(gè)閉環(huán)控制單元。用戶(hù)可以根據需要在量 程范圍內任意給定流量設定值，質(zhì)量流量控制器可以在輸入的氬氣壓力或環(huán)境溫度 發(fā)生變化時(shí)，自動(dòng)跟蹤設定值而改變流量并穩定在設定值上，保證輸送的氬氣流量不產(chǎn)生波動(dòng)，從而穩定單晶爐爐內的真空度在2.6 kPa左右。 下面來(lái)自工采傳感（ISWEEK）代理美國SIARGO的一款高精度，量程范圍寬可選的流量控制器MFC2000系列。 MFC2000系列質(zhì)量流量控制器采用公司專(zhuān)有的MEMS Thermal-D操作"“熱量傳感技術(shù)與智能控制電子設備，這種獨特的質(zhì)量流量傳感技術(shù)消除了一些擴散率相似的氣體的氣體敏感性，并允許在編程后進(jìn)行氣體識別。本產(chǎn)品可用干動(dòng)態(tài)范圍為100:1的過(guò)程控制，其控制范圍為0.1至0.8MPa(15至120 PSL)的壓力和0至50℃的補償溫度。量程在50mL/min到200L/min不同范圍可選，帶有數字RS485 Modbus通信和模擬輸出。 該產(chǎn)品的設計便于更換機械連接器，標準連接器可選雙卡套、VCR或UNF，其他定制連接器可根據要求提供。 SIARGO的MFC2000流量控制器在CVD設備中具有很重要的作用，可以精準測量和控制氣體的大小，可以很好的實(shí)現在高溫度、高精度、高分辨中使單晶棒體的高純度生長(cháng)。 |
