實(shí)驗名稱(chēng)：高功率納秒固體板條激光器光束凈化實(shí)驗
測試設備：電壓放大器、波前傳感器、傾斜鏡、變形鏡、激光器等。
實(shí)驗過(guò)程：
混合式自適應光束凈化系統實(shí)驗裝置圖如圖1所示，其主要由四部分組成：第一部分為高平均功率、高重復頻率的納秒板條激光器；第二部分為低階像差自動(dòng)校正系統，此系統中采用四片式的光學(xué)結構，是三片式校正系統的優(yōu)化結果。四片透鏡各自獨立的安裝于間隔調整系統中，間隔調整系統根據H-S測量的像差信息在波前處理器的控制下，自動(dòng)調整透鏡的空氣間隔，以滿(mǎn)足大幅值低階像差校正以及光束尺寸匹配的要求；第三部分為AO校正系統，此系統為有波前探測的AO系統，主要由傾斜鏡(TTM)、變形鏡(DM)、電壓放大器、波前處理器以及波前傳感器組成。傾斜鏡用于校正光束的整體傾斜像差，能夠有效釋放DM驅動(dòng)器的行程，并且保證出射光束的指向，實(shí)驗中采用的TTM行程為±3′。DM用于產(chǎn)生入射波前的共軛波前面型，經(jīng)其反射后出射光束的波前像差能夠得到良好的校正，混合式自適應光束凈化系統中采用的DM為59單元連續面型的變形鏡，驅動(dòng)器行程能夠達到±3μm。
混合式光束凈化系統的工作流程圖如圖2所示，首先，H-S1對板條激光器出射光束的初始像差信息進(jìn)行測量，并反饋給波前處理器，波前處理器驅動(dòng)低階像差自動(dòng)校正系統工作，采用直接校正策略，將四片透鏡移動(dòng)到滿(mǎn)足低階像差校正以及尺寸匹配的位置，對工作點(diǎn)處的大幅值低階像差成分進(jìn)行初步校正。之后H-S2對經(jīng)過(guò)LOAC系統校正后的波前信息進(jìn)行測量，并將殘余像差的斜率信息反饋給波前處理器，由波前處理器進(jìn)行判斷。當殘余像差的波前PV值≥4μm時(shí)，驅動(dòng)低階像差自動(dòng)校正系統工作，并采用調整校正策略解決工作點(diǎn)處像差變動(dòng)的問(wèn)題；當殘余像差的波前PV值<4μm時(shí)，波前處理器將H-S2反饋的斜率信息，轉換為電壓信號，發(fā)送給電壓放大器，使其產(chǎn)生TTM與DM的工作電壓，最終驅動(dòng)DM產(chǎn)生相應的面型，從而實(shí)現殘余像差的精細校正。經(jīng)過(guò)上述兩步校正的凈化系統后，出射光束能夠達到近衍射極限的光束質(zhì)量。
實(shí)驗結果：
圖3：經(jīng)低階像差校正的出射光束相關(guān)參數。(a)光束波前信息(μm)，PV=1.91μm，RMS=0.29μm；(b)遠場(chǎng)強度分布，β=2.86
圖4：經(jīng)LOAC系統校正后各項Legendre多項式的系數
圖5：校正前后近場(chǎng)光斑強度分布。(a)校正前；(b)校正后
校正前入射光束的近場(chǎng)強度分布如圖(a)所示，其光束尺寸為7mm×35mm，光斑形態(tài)呈寬高比為1：5的長(cháng)條形。經(jīng)過(guò)LOAC系統進(jìn)行尺寸變換后的近場(chǎng)強度分布如圖(b)所示，其光束尺寸為42mm×44mm，光斑形態(tài)變換為寬高比近似1：1的正方形。經(jīng)其校正后，滿(mǎn)足了后續應用中對光束尺寸匹配的要求。
實(shí)驗結果表明，經(jīng)LOAC系統校正后，初始入射光束中的大幅值低階像差成分和光斑形態(tài)寬高比較小的問(wèn)題得到了同時(shí)的解決。
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