汽車(chē)電子智能的芯片集成化技術(shù)如何提升

發(fā)布時(shí)間:2012-9-24 15:23    發(fā)布者:avrjiemi
關(guān)鍵詞: 汽車(chē)電子 , 芯片集成化
  在SoC設計中,對共存元件特別是非易失存儲器進(jìn)行排列,可不是一件容易的事情,因為有復雜度要求,就會(huì )有潛在成本的上升。其決竅就是在確保最終 IC仍能提供有成本效益的取代方案的同時(shí)對各種元件加以集成。
  現代汽車(chē)中日益增加的汽車(chē)電子元件已對汽車(chē)的空間和重量提出了挑戰。并且,在汽車(chē)電子集成的過(guò)程中,當重量的問(wèn)題通過(guò)使線(xiàn)束合理化得以改進(jìn)后,空間的限制仍然為主要的關(guān)注點(diǎn)。
  因此,對于關(guān)注節省空間的工程師們來(lái)說(shuō),所采用的潛在的半導體技術(shù)集成水平就顯得從未有過(guò)的重要。無(wú)論怎樣,通過(guò)集成電路對元件進(jìn)行替換,最新技術(shù)有助于使元件數量趨于合理,而增加IC的“智能”性也能進(jìn)一步改進(jìn)集成的功效。
  實(shí)現這一高水平集成的關(guān)鍵在于混合信號半導體技術(shù)。利用該技術(shù)可進(jìn)行這樣一種開(kāi)發(fā)應用:將模擬和數字元件及一些高壓三極管結合到一個(gè)單芯片當中。顯而易見(jiàn),這一使得應用面板上的元件數量降低到一個(gè)單一封裝器件的能力,為節約大量空間提供了可能。
  當今的半導體技術(shù)如果也能為嵌入一顆微控制器及非易失存儲器提供可能,集成元件就能為工程師們提供一種快捷并可進(jìn)行本地控制和應用管理的方法,該應用管理的范圍囊括傳感器接口方案及電機驅動(dòng)器所需的機電執行裝置方案,這在現代汽車(chē)中正日益普及。這一工藝對系統級芯片元件和諸如智能傳感器接口之類(lèi)器件的應用提供了可能。
  更優(yōu)成本
  你可以想象,對各種不同的共存元件進(jìn)行安排,特別是還要產(chǎn)生必要的 NVM可不是一件容易的事。因為有復雜度要求,就會(huì )有潛在成本的上升。因此其決竅就是在確保最終IC仍能提供有成效的取代方案的同時(shí)對各種元件加以集成。
  要做到這一點(diǎn),最重要的是查看應用結構并對每個(gè)功能塊的規格進(jìn)行預估。例如在大多數應用中,NVM的復雜技術(shù)可能有助于使整個(gè)芯片的面積減少三分之一。對諸如16或32閃存與8kB的電可擦除只讀存儲器( EEPROM)之類(lèi)的應用更可見(jiàn)其優(yōu)勢。
  尤其需要強調的一點(diǎn)是:設計中NVM元件不可與其它如引擎控制單元( ECU)或 BCU車(chē)身控制單元(BCU)混合使用。通過(guò)這種方式,工藝成本可降低,元件面積的三分之二都不需要采用復雜的NVM工藝,并且半導體制作過(guò)程中所需的價(jià)格不菲的光刻掩膜的成本也會(huì )降至最低點(diǎn)。
  另一種將兩種工藝集成在同一塊芯片的取代方法是以?xún)煞N不同的半導體工藝將兩種獨立的芯片集成在一起。例如將從不同的生產(chǎn)線(xiàn)獲得的兩種裸片結合到同一塑料封裝中,就使現有制造工藝的能力得以利用。這里的問(wèn)題是:在所采用的裝配流程中,是選擇堆疊式或是選擇并列工藝?因為兩種工藝各有其利弊。
  堆棧裸片工藝固然穩定,但也會(huì )出現因消費者現場(chǎng)失誤造成的不利:由于一個(gè)裸片會(huì )掩蓋問(wèn)題并對問(wèn)題的分析造成阻礙,因而很難對出現故障的器件進(jìn)行分析。另一方面,采用并列技術(shù)需要對定制壓焊墊進(jìn)行定位,以有效地在兩個(gè)芯片之間進(jìn)行綁定。絕大部分應用所采用的首選方案均需要一個(gè)具有嵌入式閃存的標準微控制器,這種內部綁定的應用具有重大實(shí)際限制。
  這就是此前所提到過(guò)的, AMI半導體已開(kāi)發(fā)了用于嵌入式閃存的自有方案,即大家所知的HiMOS。這種技術(shù)基于一種簡(jiǎn)化的方法,僅僅在基礎半導體工藝的制作過(guò)程中增加了幾個(gè)步驟而已。由于額外制作步驟的數量減少了,HiMOS工藝是嵌入式非易失存儲器的成本降低到可以集成到一個(gè)單芯片之中。
  通過(guò)HiMO NVM技術(shù)與公司建立的I3T80智能電源技術(shù)的集成,已能在單個(gè)芯片中提供0.35 μm CMOS混合信號及80V高壓的能力,使得完全集成的SoC方案得以發(fā)展,實(shí)現了成本和空間的顯著(zhù)降低及性能的提升。特別是包含閃存工藝只需要對 I3T80基礎工藝掩膜組增加三個(gè)光罩層。對于一個(gè)嵌入式閃存的單個(gè)芯片,它只占該芯片總體積三分之一;掩膜層數量越少,HiMOS方案的單元密度就越低,從而使整個(gè)替代技術(shù)的凈成本降低15%。
  未來(lái)之路
  最后,除了節省空間之外,具有高壓能力的嵌入式閃存技術(shù)的一個(gè)更大的優(yōu)勢在于元件的長(cháng)期供應。例如,在汽車(chē)與工業(yè)應用中,產(chǎn)品的壽命周期能達10年或更多。將閃存嵌入IC可以防止出現技術(shù)生命終結的風(fēng)險,并且由于逐步淘汰當前工藝而采用新的工藝,需要對設計進(jìn)行定期檢驗,這是采用分立式NVM或閃存微控制器時(shí)經(jīng)常會(huì )出現的問(wèn)題。   
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