英特爾CEO:EUV光刻技術(shù)或助力芯片突破摩爾定律

發(fā)布時(shí)間:2013-11-4 16:41    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: 摩爾定律 , EUV , 極紫外線(xiàn) , 光刻
據美國科技博客BusinessInsider報道,在近50年的科技發(fā)展中,技術(shù)變革的速度一直遵循著(zhù)摩爾定律。一次又一次的質(zhì)疑聲中,英特爾堅定不移地延續著(zhù)摩爾定律的魔力。

摩爾定律是由英特爾聯(lián)合創(chuàng )始人Gordon Moore提出,內容為:當價(jià)格不變時(shí),集成電路上可容納的晶體管數目,約每隔18個(gè)月便會(huì )增加一倍,性能也將提升一倍。換言之,每一美元所能買(mǎi)到的電腦性能,將每隔18個(gè)月翻兩倍以上。這一定律揭示了信息技術(shù)進(jìn)步的速度。

在幾十年來(lái),芯片技術(shù)得以快速變革和發(fā)展,變得更加強大,節省了更多的空間和資源,這也使得電腦的速度成倍地變快、體積成倍地變小。

但有些物理專(zhuān)家表示,除非有某種技術(shù)的突破才能突破摩爾定律的限制。今天,英特爾等芯片廠(chǎng)商通過(guò)量子力學(xué)技術(shù)能夠在尖端芯片上擺放數十億個(gè)微處理器。

摩爾定律的延續已成為一個(gè)巨大挑戰,英特爾CEO Brian Krzanich給出的解決方案是——一種新的技術(shù)extreme ultraviolet lithography(EUV,極紫外線(xiàn)光刻技術(shù)),可以幫助英特爾繼續做出更小、更快、更高效的芯片。不幸的是,這說(shuō)起來(lái)容易做起來(lái)難。

荷蘭微影設備大廠(chǎng)ASML在2009年就公布了EUV光刻技術(shù),但一直未有顯著(zhù)的進(jìn)展,為推動(dòng)該技術(shù)的研發(fā),在去年的夏天英特爾向其注資41億美元。

雖然在芯片創(chuàng )新的路上存在無(wú)數的挑戰和障礙,但是英特爾一直沒(méi)有停止過(guò)自己的腳步:上月中旬,英特爾在IDF上展示了在PC上運行的14nm Broadwell CPU。日前,英特爾CEO稱(chēng),由于生產(chǎn)問(wèn)題,下一代Broadwell處理器將被推遲至明年發(fā)布。

另外,英特爾計劃在2015年采用10 nm的晶體管,而到了2017年達到7 nm,這些都是出奇的小。相比較而言,人身上的血細胞是7000 nm,而一個(gè)DNA鏈為2.5 nm。

英特爾目前還未過(guò)多的談?wù)揈UV光刻技術(shù),可能涉及競爭的原因等,但是,如果該技術(shù)被得以大范圍采用并推向市場(chǎng),那么7 nm芯片等都也將成為可能。
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