密度比7nm增加18%,臺積電將推出6nm制程技術(shù)

發(fā)布時(shí)間:2019-4-18 10:26    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: 6nm , 6納米 , 臺積電
來(lái)源:觀(guān)察者網(wǎng)

全球晶圓代工大廠(chǎng)臺積電16日宣布,將推出6納米制程技術(shù),預計在2020年一季度進(jìn)行試產(chǎn),可支持高階到中階產(chǎn)品,以及AI、5G基礎架構等應用。

臺積電指出,6 納米制程技術(shù)將可協(xié)助客戶(hù)在效能與成本之間,取得高度競爭力的優(yōu)勢,且借由7納米技術(shù)設計的直接移轉,達到加速產(chǎn)品上市的目標。

據《中時(shí)電子報》報道,臺積電此前已掌握7納米制程并拿下各大智能手機芯片訂單,加上先前5納米晶圓廠(chǎng)近期開(kāi)始試產(chǎn),這些布局等于是站穩市場(chǎng)領(lǐng)先地位。

臺積電表示,6納米制程技術(shù)與7納米制程技術(shù)的設計法則完全兼容,7納米的設計生態(tài)系統能夠再次使用,客戶(hù)只需要使用有限的工程資源,就能采用這套最新技術(shù)達成的產(chǎn)品。

相較臺積電7納米制程,6納米制程邏輯密度增加18%,可以提供客戶(hù)更高的效能與成本效益,預計在2020年第1季試產(chǎn),提供中階行動(dòng)產(chǎn)品、AI、網(wǎng)通、5G基礎架構、繪圖處理器以及高效能運算等應用。

同一天(16日),三星也發(fā)布新聞稿宣布,完成極紫外光刻(EUV)技術(shù)的5納米制程研發(fā),相較于7納米制程,面積縮小25%、耗電減少20%、性能提升10%, 5納米制程還能使用7納米設計IP,借此幫助客戶(hù)減少5納米制程設計費用。

此外,7納米制程產(chǎn)品將于4月正式出貨;6納米制程部分,三星表示,目前正與大型客戶(hù)進(jìn)行生產(chǎn)協(xié)議,也已經(jīng)完成定案(Tape-Out),預計下半年進(jìn)行量產(chǎn)。

臺媒報道指出,臺積電早于三星宣布完成5納米制程研發(fā),預計在第2季進(jìn)行試產(chǎn),雖三星急起直追,但根據目前全球晶圓代工市占率,三星第1季已經(jīng)提升至19.1%,但與臺積電的48.1%相比,仍被甩在身后,此外,三星在先進(jìn)制程的質(zhì)量如何,不僅外界關(guān)注,也是三星是否有機會(huì )在先進(jìn)制程競賽當中,扳回一城的重要關(guān)鍵。
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