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Calibre nmLVS-Recon 技術(shù)可對早期 IC 設計進(jìn)行快速、系統性和自動(dòng)化的分析 為了幫助集成電路 (IC) 設計人員更快地實(shí)現設計收斂，Mentor, a Siemens business 近日將Calibre Recon 技術(shù)擴展至 Calibre nmLVS 電路驗證平臺。Calibre Recon 技術(shù)于2019年推出，作為 Mentor Calibre nmDRC 套件的擴展，旨在幫助客戶(hù)在早期驗證設計迭代期間快速、自動(dòng)和準確地分析 IC 設計中的錯誤，從而極大地縮短設計周期和產(chǎn)品上市時(shí)間。 Calibre nmLVS-Recon 解決方案能夠幫助芯片級系統 (SoC) 工程師、電路設計人員和 IC 電路驗證團隊在開(kāi)發(fā)階段的早期，識別并解決選定的系統錯誤，縮短電路驗證的總周轉時(shí)間。這些系統錯誤不僅會(huì )消耗寶貴的計算資源，而且可能產(chǎn)生數百萬(wàn)個(gè)錯誤結果，其中許多錯誤是因為設計數據不完整而產(chǎn)生。Calibre nmLVS-Recon 解決方案的早期采用者在分析早期設計時(shí)能夠實(shí)現 10 倍以上的運行時(shí)間改善，內存需求減少3 倍。 “Calibre nmLVS-Recon建立了電路驗證使用模型的全新范式，”三星電子設計支援副總裁 Jongwook Kye 表示，“通過(guò)將Calibre nmLVS-Recon 技術(shù)與三星經(jīng)過(guò)認證的 Sign-off Calibre nmLVS 設計套件相結合，我們的共同客戶(hù)將可以在早期設計中實(shí)現更快的迭代，從而縮短 LVS 驗證周期，在三星實(shí)現快速tape out�！� Calibre nmLVS-Recon 技術(shù)基于靈活的配置框架，支持多種使用模型，使設計團隊能夠選擇和分析特定類(lèi)別的電路驗證問(wèn)題。該工具采用自動(dòng)化的智能執行啟發(fā)法（intelligent execution heuristics），旨在幫助用戶(hù)在完整的 Calibre nmLVS Signoff 流程與 Calibre Recon 選擇的電路驗證檢查之間無(wú)縫導航。借助數據分區、設計細分、數據復用、任務(wù)分布和錯誤管理的高級選項，可按原樣將 Calibre nmLVS-Recon 流程與任何晶圓代工廠(chǎng)/集成設備制造商 (IDM) 的 Calibre sign-off 設計套件結合使用，而且可以應用于任何工藝技術(shù)節點(diǎn)。 早期的設計版本通常包含許多明顯的系統違規問(wèn)題。例如，“網(wǎng)絡(luò )短路” (shorted nets) 這樣的違規會(huì )造成數百萬(wàn)個(gè)錯誤，而且會(huì )耗費大量計算資源�，F在，電路驗證工程師可以使用 Calibre nmLVS-Recon 短路隔離配置，以交互和迭代的方式快速有效地查找并修復這一類(lèi)型的違規問(wèn)題。此選項是內置的，可以實(shí)現最佳靈活性和設計分析意圖的變化，同時(shí)保持易用性和無(wú)縫的使用模型轉換。 “通過(guò)向 Calibre 平臺添加 Calibre nmLVS-Recon 技術(shù)，Mentor能夠繼續協(xié)助客戶(hù)直面日趨復雜的 IC 設計挑戰�！盡entor的Calibre 設計解決方案產(chǎn)品管理副總裁 Michael Buehler-Garcia 表示，“Calibre nmDRC-Recon 方法提供的早期設計探索已經(jīng)幫助多個(gè)設計團隊節省了大量的版圖驗證時(shí)間�，F在，Mentor 通過(guò) Calibre nmLVS-Recon 技術(shù)帶來(lái)了同樣的優(yōu)勢，在縮短電路驗證的總周轉時(shí)間的同時(shí)，還幫助設計團隊解決了當今芯片設計的復雜性問(wèn)題�！� Calibre nmLVS-Recon已隨 2020 年 7 月發(fā)布的 Calibre 系列同期上市，并計劃在以后的版本中提供更多功能。如需更多信息，請訪(fǎng)問(wèn)：https://bit.ly/2ZA7qjn |
