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在行業(yè)接近物理極限之際，半導體行業(yè)領(lǐng)導者開(kāi)始采用NVIDIA在計算光刻技術(shù)領(lǐng)域的突破成果 NVIDIA宣布推出一項將加速計算引入計算光刻技術(shù)領(lǐng)域的突破性成果。在當前生產(chǎn)工藝接近物理極限的情況下，這項突破使ASML、TSMC和Synopsys等半導體行業(yè)領(lǐng)導者能夠加快新一代芯片的設計和制造。 全球領(lǐng)先的代工廠(chǎng)TSMC，以及電子設計自動(dòng)化領(lǐng)域的領(lǐng)導者Synopsys正在將全新的NVIDIA cuLitho計算光刻技術(shù)軟件庫整合到最新一代NVIDIA Hopper™架構GPU的軟件、制造工藝和系統中。設備制造商 ASML正在GPU和cuLitho方面與NVIDIA展開(kāi)合作，并正在計劃在其所有計算光刻軟件產(chǎn)品中加入對GPU的支持。 這一進(jìn)展將使得未來(lái)的芯片能夠擁有比目前更小的晶體管和導線(xiàn)，同時(shí)加快產(chǎn)品上市時(shí)間，大幅提高為驅動(dòng)制造流程而全天候運行的大型數據中心的能效。 NVIDIA創(chuàng )始人兼首席執行官黃仁勛表示：“芯片行業(yè)是全球幾乎所有其他行業(yè)的基礎。光刻技術(shù)已臨近物理極限，NVIDIA cuLitho的推出以及我們與 TSMC、ASML 和 Synopsys的合作，使晶圓廠(chǎng)能夠提高產(chǎn)量、減少碳足跡并為2納米及更高工藝奠定基礎�！� cuLitho在GPU上運行，其性能比當前光刻技術(shù)工藝（通常指在硅晶圓上繪制電路）提高了40倍，能夠為目前每年消耗數百億CPU小時(shí)的大規模計算工作負載提供加速。 憑借這項技術(shù)，500個(gè)NVIDIA DGX H100系統即可完成原本需要4萬(wàn)個(gè)CPU系統才能完成的工作，它們能夠同時(shí)運行計算光刻工藝的所有流程，助力降低耗電以及對環(huán)境的影響。 在短期內，使用cuLitho的晶圓廠(chǎng)每天的光掩模（芯片設計模板）產(chǎn)量可增加3-5倍，而耗電量可以比當前配置降低9倍。原本需要兩周時(shí)間才能完成的光掩�，F在可以在一夜之間完成。 從長(cháng)遠來(lái)看，cuLitho將帶來(lái)更好的設計規則、更高的密度和產(chǎn)量以及AI驅動(dòng)的光刻技術(shù)。 行業(yè)領(lǐng)導者的支持 NVIDIA正在與行業(yè)領(lǐng)導者們共同推動(dòng)這項新技術(shù)的迅速普及。 TSMC首席執行官魏哲家表示：“cuLitho 團隊通過(guò)將昂貴的操作轉移到 GPU，在加速計算光刻方面取得了令人欽佩的進(jìn)展。這項成果為T(mén)SMC在芯片制造中更大范圍地部署反演光刻技術(shù)、深度學(xué)習等光刻解決方案提供了新的可能性，為半導體行業(yè)規模的持續擴大做出了重要貢獻�！� ASML首席執行官Peter Wennink表示：“我們計劃在所有計算光刻軟件產(chǎn)品中加入對GPU的支持。我們與NVIDIA在GPU和cuLitho上的合作預計會(huì )給計算光刻技術(shù)，乃至整個(gè)半導體行業(yè)的發(fā)展帶來(lái)巨大的益處。這一點(diǎn)在High-NA EUV光刻時(shí)代將變得尤為明顯�！� Synopsys董事長(cháng)兼首席執行官Aart de Geus表示：“計算光刻技術(shù)，尤其是光學(xué)鄰近修正（OPC）正在推動(dòng)先進(jìn)芯片計算工作負載的邊界。通過(guò)與NVIDIA合作，Synopsys OPC軟件將在cuLitho平臺上運行，可將原本需要數周才能完成的工作大幅縮短到數天。這將繼續推動(dòng)該行業(yè)取得驚人的進(jìn)步�！� 推動(dòng)半導體行業(yè)的發(fā)展 近年來(lái)，由于增長(cháng)的新節點(diǎn)晶體管數量以及更加嚴格的精度要求，半導體制造中的超大型工作負載所需的計算時(shí)間成本已經(jīng)超過(guò)了摩爾定律。未來(lái)的節點(diǎn)需要更加詳細的計算，但不是所有計算都能適應當前平臺所提供的可用計算帶寬，這會(huì )減緩半導體行業(yè)的創(chuàng )新步伐。 一般情況下，晶圓廠(chǎng)在改變工藝時(shí)需要修改OPC，因此會(huì )遇到瓶頸。cuLitho不僅可以幫助突破這些瓶頸，還可以提供曲線(xiàn)式光掩模、High-NA EUV 光刻、亞原子光刻膠建模等新技術(shù)節點(diǎn)所需的新型解決方案和創(chuàng )新技術(shù)。 |
