鎧俠與閃迪攜手在ISSCC 2025上發(fā)布第十代BiCS FLASH閃存技術(shù)

發(fā)布時(shí)間:2025-2-21 16:27    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: 鎧俠 , 閃迪 , BiCS , FLASH , 閃存
2月21日,存儲技術(shù)領(lǐng)域的兩大巨頭——鎧俠(Kioxia)與閃迪(SanDisk)在國際固態(tài)電路會(huì )議(ISSCC 2025)上攜手發(fā)布了一項重大技術(shù)突破:第十代BiCS FLASH閃存技術(shù)。這一創(chuàng )新技術(shù)的發(fā)布,標志著(zhù)存儲行業(yè)在速度、功耗及存儲密度方面邁入了全新的發(fā)展階段。



據悉,第十代BiCS FLASH閃存技術(shù)采用了先進(jìn)的CMOS直接鍵合到陣列(CBA)技術(shù),將每個(gè)CMOS晶圓和單元陣列晶圓單獨制造后粘合在一起。這一技術(shù)的運用,使得閃存芯片在結構上更加緊湊,性能更加卓越。同時(shí),鎧俠與閃迪還引入了最新的Toggle DDR6.0接口標準和SCA協(xié)議,將NAND I/O接口速度從上一代的3.6Gbps提升至4.8Gbps,實(shí)現了33%的性能提升。

除了速度上的顯著(zhù)提升,第十代BiCS FLASH閃存技術(shù)在功耗控制方面也取得了顯著(zhù)成果。通過(guò)引入PI-LTT(電源隔離低抽頭終端)技術(shù),該技術(shù)在數據輸入/輸出過(guò)程中實(shí)現了顯著(zhù)的功耗降低,其中輸入功耗減少了10%,輸出功耗更是降低了34%。這一功耗性能的提升,不僅有助于延長(cháng)設備的續航時(shí)間,還降低了對環(huán)境的負擔,體現了鎧俠與閃迪在環(huán)保方面的積極貢獻。

在存儲密度方面,第十代BiCS FLASH閃存技術(shù)同樣表現出色。通過(guò)增加閃存層數至332層,并優(yōu)化晶圓平面布局,該技術(shù)使得位密度相較于前代產(chǎn)品提升了59%。這一提升不僅滿(mǎn)足了用戶(hù)對更大存儲容量的需求,還為未來(lái)更多數據密集型應用的開(kāi)展提供了基礎保障。

鎧俠與閃迪的首席技術(shù)官在發(fā)布會(huì )上表示,隨著(zhù)人工智能技術(shù)的普及和大數據時(shí)代的到來(lái),存儲設備的速度與效率成為企業(yè)選擇技術(shù)架構時(shí)的一項關(guān)鍵指標。第十代BiCS FLASH閃存技術(shù)的推出,正是對市場(chǎng)需求的積極回應,它將為用戶(hù)提供更加高效、可靠的數據存儲解決方案。
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