|
1 高電位鍍層呈黑色?沒(méi)有清晰分界 原因 措施 金屬濃度低 提高金屬濃度?１～３０ｇ／Ｌ 藥液溫度低 提高溫度?２５°C±３°C 搖擺不足 增加搖擺至Ｏ．４～０．８ｍ／ｍｉｎ 電流密度過(guò)高 電流密度不高于２．０ ＡＳＤ Part A濃度偏低 (<20mL/L) 提高Part A 濃度 (30-80L/L) 2 高、中電位層呈黑色及晶體粗糙?有清晰分界 原因 措施 嚴重干膜污染 改用炭芯過(guò)濾，或炭處理6-10g/L炭粉，處理時(shí)間4-6h 3 低電位的覆蓋能力差 原因 措施 氯離子濃度高 重新配制鍍液 硝酸根濃度高 拖缸 �。樱裕鹊�?特別在炭處理后 提高ＳＴＨ濃度至８０mL/L 金屬濃度高 降低金屬濃度?１５～３０ｇ/L 藥液溫度高 降低藥液溫度?２５°C±３°C 有機污染 炭處理 4 鍍層分布能力差 原因 措施 金屬濃度高 金屬濃度范圍?１５～３０ｇ/L 硫酸濃度低 硫酸濃度范圍?１８０～２００g/L Part A 濃度低 提高Part A濃度?３０～８０mL/L 陽(yáng)極接觸差 檢查及改善接觸效果 |
