較勁臺積電 三星最新工藝藍圖2020年推進(jìn)4nm

發(fā)布時(shí)間:2017-5-31 10:10    發(fā)布者:eechina
來(lái)源:DIGITIMES

三星電子、臺積電在先進(jìn)工藝較勁猛,計劃將晶圓代工拆分獨立事業(yè)部的三星24日公布未來(lái)制程藍圖,緊接著(zhù)臺積電于25日舉行技術(shù)論壇宣示其四大制程平臺進(jìn)展。根據雙方規劃,2018年將是7納米量產(chǎn)的決定性時(shí)間點(diǎn),同時(shí),2020年也可能是摩爾定律“終結前”3或4納米最后一個(gè)關(guān)鍵節點(diǎn)。

三星最新工藝藍圖2020年推進(jìn)4nm

日前宣布準備拆分晶圓代工事業(yè)的三星,始終希望能在市場(chǎng)上一舉超越臺積電。巧合的是,三星趕在臺積電技術(shù)論壇前,搶先對外宣示未來(lái)幾年的制程技術(shù)藍圖。

根據三星規劃,2017年底之前試產(chǎn)8納米制程技術(shù),2018年量產(chǎn)7納米制程技術(shù),2019年則陸續研發(fā)6納米及5納米制程,時(shí)程再推進(jìn)到2020年之際,三星希望直接將制程技術(shù)推進(jìn)至4納米以下。

同時(shí),三星還宣布,將在2018年引進(jìn)艾司摩爾(ASML)最先進(jìn)EUV光刻機投入晶圓生產(chǎn)線(xiàn),以提高產(chǎn)能及良率。目前所使用的光刻機已可以達到穩定投入1000片晶圓產(chǎn)量,未來(lái)還希望產(chǎn)量提升50%,來(lái)到每天1,500片穩定產(chǎn)出。



三星來(lái)勢洶洶 臺積電胸有成竹

相對于三星制程上的規劃,晶圓代工龍頭臺積電也不甘示弱,在25日技術(shù)論壇上公布最新自家的技術(shù)藍圖。臺積電規劃,在2017年10納米制程正式量產(chǎn)后,2018年將開(kāi)始7納米制程生產(chǎn),之后更先進(jìn)的5納米制程則會(huì )落在2020年量產(chǎn)。

臺積電共同CEO暨總經(jīng)理劉德音也透露,目前臺積電已經(jīng)組成數百人的研發(fā)團隊,針對更先進(jìn)的3納米制程研發(fā)中。不過(guò)對于選廠(chǎng)地址,沒(méi)有進(jìn)一步透露。

此外臺積電積極搶進(jìn)創(chuàng )新市場(chǎng),讓客戶(hù)的創(chuàng )新能夠實(shí)現,臺積電為此推出包括行動(dòng)、高速運算、車(chē)用與物聯(lián)網(wǎng)4個(gè)平臺。

行動(dòng)平臺方面,臺積電10納米工藝已大量投產(chǎn),7納米制程已有12個(gè)產(chǎn)品設計定案(Tape Out),預計明年量產(chǎn),5納米制程將于2019年進(jìn)入風(fēng)險性試產(chǎn)。

高速運算平臺方面,臺積電7納米高速運算產(chǎn)品將于今年6月設計定案。車(chē)用平臺方面,16FFC制程將有8個(gè)產(chǎn)品導入設計,7納米制程預計2018年通過(guò)AEC-Q100認證。

物聯(lián)網(wǎng)平臺方面,臺積電55納米、40納米及28納米ULP制程今年估計將有超過(guò)70個(gè)產(chǎn)品設計定案。

上述的四大領(lǐng)域平臺各領(lǐng)域均有客戶(hù)導入設計開(kāi)發(fā)與生產(chǎn),累計450家客戶(hù),平均每周以增加一家客戶(hù)的速度持續增長(cháng)。面對三星的來(lái)勢洶洶,臺積電方面似乎也已經(jīng)做好了準備。
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