新思科技Fusion技術(shù)助力三星7LPP EUV工藝降低功耗、縮小面積并提高性能

發(fā)布時(shí)間:2018-7-5 10:54    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: Fusion , 7nm , 7LPP
新思科技(Synopsys )近日宣布,新思科技Design Platform Fusion 技術(shù)已通過(guò)三星認證,可應用于其7納米(nm)低功耗+(LPP-Low Power Plus)工藝的極紫外(EUV)光刻技術(shù)。新思科技Design Platform為基于EUV單次曝光布線(xiàn)和連排打孔提供完備的全流程7LPP支持,以確保最大程度地實(shí)現設計的可布線(xiàn)性和利用率,同時(shí)最大限度地降低電壓降(IR-drop)。新思科技的SiliconSmart 庫表征工具對于研發(fā)在該認證工藝上建立參考流程所使用的基礎IP非常關(guān)鍵。三星已經(jīng)認證了新思科技 Design Platform工具和參考流程,該流程與Lynx Design System兼容,配備用于自動(dòng)化和設計最佳實(shí)踐的腳本。該參考流程可通過(guò)三星Advanced Foundry Ecosystem (SAFE) 計劃獲得。

三星電子代工市場(chǎng)營(yíng)銷(xiāo)團隊副總裁Ryan Sanghyun Lee表示:“通過(guò)與新思科技的深入合作,我們7LPP工藝上的認證和參考流程將為我們共同的客戶(hù)在設計上實(shí)現最低功耗、最佳性能和最優(yōu)面積。使用經(jīng)過(guò)驗證并集成了Fusion技術(shù)的新思科技 Design Platform,我們的代工客戶(hù)可以放心地使用新思科技最先進(jìn)的EUV工藝量產(chǎn)他們的設計!

新思科技設計事業(yè)部營(yíng)銷(xiāo)與商務(wù)開(kāi)發(fā)副總裁Michael Jackson表示:“我們與三星的工具和參考流程合作重點(diǎn)在于使設計人員能夠使用三星最新的EUV 7LPP工藝在最高可信度下獲得最佳結果質(zhì)量。采用集成了Fusion技術(shù)的新思科技Design Platform,可擴展7LPP參考流程將使設計人員能夠輕松實(shí)現他們期望的設計和時(shí)間目標!

基于ARMv8架構的64位Arm Cortex-A53處理器被用于結果質(zhì)量(QoR)優(yōu)化和流程認證。新思科技Design Platform 7LPP參考流程的關(guān)鍵工具和功能包括:

•        IC Compiler II布局和布線(xiàn):基于EUV單次曝光的布線(xiàn)具備優(yōu)化的7LPP設計規則支持,以及連排打孔以確保最大的設計可布線(xiàn)性和利用率,同時(shí)最大限度地減少電壓降。
•        Design Compiler Graphical RTL綜合:與布局布線(xiàn)結果的相關(guān)性,擁塞減少,優(yōu)化的7LPP設計規則支持以及向IC Compiler II提供物理指導 。
•        IC Validator物理signoff:高性能DRC signoff,LVS感知型短路查找器、signoff填充、模式匹配和獨特的采用Explorer技術(shù)的Dirty Data分析,以及帶有DRC自動(dòng)修復的設計內驗證和在IC Compiler II中的準確感知時(shí)序的金屬填充。
•        PrimeTime時(shí)序signoff:近閾值超低電壓變化建模,過(guò)孔變化建模和感知布局規則的工程變更指令(ECO)指導。
•        StarRC寄生參數提。篍UV基于單次曝光模式的布線(xiàn)支持,以及新的提取技術(shù),如基于覆蓋率的過(guò)孔電阻。
•        RedHawkAnalysis Fusion:ANSYS RedHawk驅動(dòng)的在IC Compiler II中的EM/IR分析和優(yōu)化,包括過(guò)孔插入和電網(wǎng)增幅。
•        DFTMAX和TetraMAX II測試:基于FinFET、單元感知和基于時(shí)序裕量的轉換測試以獲得更高的測試質(zhì)量。
•        Formality形式驗證:基于UPF、帶狀態(tài)轉換驗證的等價(jià)性檢查。

目前可通過(guò)SAFE計劃獲得與新思科技Lynx Design System兼容并經(jīng)認證的可擴展參考流程。Lynx Design System是一個(gè)全芯片設計環(huán)境,包含創(chuàng )新的自動(dòng)化和報告功能,可幫助設計人員實(shí)施和監控其設計。它包括一個(gè)生產(chǎn)化RTL-to-GDSII流程,可簡(jiǎn)化和自動(dòng)化許多關(guān)鍵的設計實(shí)現和驗證任務(wù),使工程師能夠專(zhuān)注于實(shí)現性能和設計目標。SAFE計劃提供由三星認證支持并經(jīng)廣泛測試的工藝設計套件(PDK)和參考流程(與設計方法)。

關(guān)于Fusion技術(shù)

新思科技的突破性Fusion 技術(shù)融合了同類(lèi)最佳的優(yōu)化和行業(yè)認可的signoff工具,改變了RTL-to-GDSII的設計流程,使設計人員能夠利用行業(yè)最佳的全流程結果質(zhì)量(QoR)和最快的結果時(shí)間(TTR)方案加速下一代設計的交付。它重新定義了綜合、布局布線(xiàn)和signoff方面傳統EDA工具的邊界,讓業(yè)界首屈一指的諸多數字化設計工具能夠共享引擎,并使用獨特的單一數據模型進(jìn)行邏輯和物理表示。Fusion 技術(shù)讓整個(gè)新思科技 Design Platform采用一套DNA骨架,包括IC Compiler II布局布線(xiàn)、Design Compiler Graphical綜合、PrimeTime signoff、StarRC提取、IC Validator物理驗證、DFTMAX測試、TetraMAX II自動(dòng)測試向量生成(ATPG)、SpyGlass DFT ADV RTL可測試性分析,以及Formality等價(jià)性驗證。它提供了Design Fusion、 ECO Fusion,、Signoff Fusion和Test Fusion,用最少的迭代以及無(wú)法超越的設計頻率、功耗和面積實(shí)現最可預測的RTL-to-GDSII流程。
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