一年一度的Semicon West 2011大會(huì )上周早些時(shí)候已經(jīng)結束。但這次大會(huì )令參會(huì )者感受頗深的卻是：半導體技術(shù)未來(lái)幾年的發(fā)展前景顯得含混不清且充滿(mǎn)了悲觀(guān)和樂(lè )觀(guān)的懸念。向 14/11/9nm節點(diǎn)制程邁進(jìn)的艱難困苦，再附加上450mm規格升級，以及EUV光刻升級等難度同樣不小的因素則是攪局的三大幕后推手。
由半導體設備廠(chǎng)商Novellus和應用材料公司舉辦的討論環(huán)節中，兩家廠(chǎng)商的代表均表示，由于主要幾家芯片代工廠(chǎng)的產(chǎn)能利用率不足（臺積電利用率僅80%，而GlobalFoundries在新加坡的Fab7芯片廠(chǎng)情況則稍好一些），加上PC機銷(xiāo)量幅度的單位數增長(cháng)帶來(lái)的內存芯片銷(xiāo)量低迷，導致兩家廠(chǎng)商的設備銷(xiāo)售狀況受到了不良的影響。 不僅如此，某家主要的光刻機廠(chǎng)商還稱(chēng)：“我們的客戶(hù)目前都沒(méi)有為擴增產(chǎn)能而采購光刻機設備的行動(dòng)�！睘榇�，這家廠(chǎng)商對今年下半年的支出計劃進(jìn)行了削減。另外一家主要的化學(xué)品廠(chǎng)商則表示，在密切注視全球經(jīng)濟狀況的同時(shí)，他們的公司已經(jīng)發(fā)起了一項旨在降低公司下半年負擔的降成本行動(dòng)計劃。 一家大型半導體制造設備廠(chǎng)商的主管則表示，他非常贊同Novellus和應用材料公司的做法，他說(shuō)：“我們也正在執行降成本計劃�！� 希望這種局面只是一個(gè)小插曲而已。不過(guò)這段“插曲"會(huì )不會(huì )轉變成半導體業(yè)界整體的下行局勢，則要看全球經(jīng)濟環(huán)境的實(shí)際狀況而定。 不過(guò)，令人稍感安慰的是，目前半導體制造設備及制造用材料業(yè)界并非完全看不到一絲光線(xiàn)，比如蘋(píng)果的iPad2產(chǎn)量無(wú)法滿(mǎn)足市場(chǎng)需求便是一個(gè)好消息。 不僅如此，盡管身陷與蘋(píng)果的官司糾紛，但三星公司仍然決定要將繼續推進(jìn)其位于奧斯汀的第三間大型芯片廠(chǎng)建造計劃。雖然蘋(píng)果有可能將其部分邏輯芯片交由臺積電或Intel代工，但蘋(píng)果的芯片需求總量則仍在繼續增長(cháng)，因此也許所有這三家半導體廠(chǎng)商都能從中嘗到甜頭。 最后一則喜訊則是，Intel最近宣布會(huì )增加公司的投資力度。一位半導體制造設備廠(chǎng)商的高管表示："此舉令2013年的愿景大亮。" 450mm規格轉換：資金的困難 本次會(huì )議上，傳來(lái)了一些對450mm規格轉換有利的好消息。比如應用材料公司的高管Mike Splinter便表示，明年公司在450mm項目上的投資將超過(guò)1億美元規模。除此之外，過(guò)去一直對450mm規格轉換沒(méi)什么好感的半導體設備廠(chǎng)商，在各方的勸說(shuō)下，也已經(jīng)慢慢轉變了對其的態(tài)度，并且做出了一些有實(shí)質(zhì)性意義的轉變動(dòng)作。比如量檢具廠(chǎng)商KLA Tencor便推出了其可適用于450mm晶圓的檢驗用工具Surfscan SP3. 另外一方面，450mm晶圓制造用光刻設備的兼容性的問(wèn)題也有望于未來(lái)幾個(gè)月內得到暫時(shí)的解決，光刻廠(chǎng)商會(huì )推出一些臨時(shí)的解決方案以應對光刻機與450mm規格晶圓兼容的問(wèn)題。據我得到的消息，目前某匿名光刻機廠(chǎng)商/機構已經(jīng)在與某半導體廠(chǎng)商洽談?dòng)嘘P(guān)設計制造適合450mm規格晶圓加工用光刻設備的協(xié)議。關(guān)于這個(gè)消息，有人的說(shuō)法是這種設備將會(huì )基于納米壓印技術(shù)，另外一位來(lái)自ISMI組織的成員則指納米壓印廠(chǎng)商Molecular Imprints和美國半導體研究組織Sematech是這個(gè)協(xié)議的簽訂雙方（ISMI組織是Sematech組織的一個(gè)分會(huì )組織，推廣450mm規格轉換則是該分會(huì )組織的項目之一）。 除此之外，奧巴尼大學(xué)納米科技學(xué)院目前也正計劃建造一個(gè)450mm技術(shù)研發(fā)中心，以支持ISMI的450mm研究計劃。但糟糕的是，奧巴尼大學(xué)納米科技學(xué)院所在的紐約州目前正在執行財政緊縮政策，因此眼下政客們恐怕更關(guān)心的是本州的財政收支水平能否達標，他們可沒(méi)那閑工夫去考慮是不是要為這項計劃掏腰包贊助的事。 與此形成對比的是，歐洲的IMEC研究機構則已經(jīng)建有一間可兼容450mm規格的研發(fā)用廠(chǎng)，IMEC的高管在Semicon West宣稱(chēng)，該廠(chǎng)完全可以滿(mǎn)足450mm規格生產(chǎn)用設備研發(fā)的條件。 問(wèn)題是，Sematech組織的成員公司表示并不愿意為450mm制造用設備項目的研發(fā)支付超過(guò)1/4份額的預算資金，而SEMI組織成員則稱(chēng)芯片制造廠(chǎng)商才應該是負擔這筆費用的主體。 450mm規格轉換：來(lái)自EUV的阻力 然而資金問(wèn)題并不是450mm項目面臨的唯一難題。450mm規格轉換的時(shí)間點(diǎn)，與節點(diǎn)制程與EUV光刻技術(shù)升級的時(shí)間點(diǎn)相互撞車(chē)則是另外一個(gè)不確定負面因素。一位來(lái)自某半導體廠(chǎng)商的高管稱(chēng)，半導體業(yè)界絕不會(huì )減緩升級節點(diǎn)制程的速度，因為人們普遍認為，從節點(diǎn)制程的縮減中所獲取的利益，要比采用更大尺寸晶圓所獲得的成本利益更為重要。 另外，由于目前許多廠(chǎng)商都計劃在14nm節點(diǎn)正式啟用EUV光刻技術(shù)，因此他們應該會(huì )先在300mm平臺上引入EUV光刻技術(shù)，然后才會(huì )考慮450mm全規格轉換的事宜。 這位高管表示："必須要在450mm轉換之前完成EUV的實(shí)用化部署。" 當然并不是所有人都對這種看法表示贊同。據有關(guān)人士透露，市面上主要的兩家光刻機廠(chǎng)商尼康和ASML便很快會(huì )推出適用于450mm規格的193nm液浸式光刻機。另一方面，光刻受到晶圓尺寸增大的影響其實(shí)也并不非常嚴重。據另外一位業(yè)內高管稱(chēng)，ASML公司的EUV光刻機的晶圓夾持機構和載具等便已經(jīng)內含了可以兼容450mm規格的設計，可以隨時(shí)升級到適用于450mm規格。 最后一個(gè)懸念在于，450mm規格轉換究竟會(huì )在哪個(gè)節點(diǎn)啟動(dòng)。首先我們來(lái)看看節點(diǎn)制程啟動(dòng)的時(shí)間點(diǎn)，如果暫不將Intel考慮在內，28nm制程定于年內開(kāi)始提升產(chǎn)量，而2013年則會(huì )是22/20nm制程提升產(chǎn)能的時(shí)間點(diǎn)，14nm制程則會(huì )在2015年推出。 由于2017年11nm制程推出時(shí)，將會(huì )是EUV走向實(shí)用的關(guān)鍵時(shí)間點(diǎn)，那么擺在應用材料,ASML，尼康，Novellus以及東電等半導體制造設備商高管面前的問(wèn)題就變成：要不要把寶押在賭半導體廠(chǎng)商會(huì )在2017年冒險同時(shí)上馬EUV和450mm規格轉換；還是把寶押在賭這些廠(chǎng)商會(huì )先推進(jìn)EUV,Finfet/FDSOI,TSV等新技術(shù)，然后再在9nm乃至7nm節點(diǎn)推廣450mm規格轉換？ 此次Semicon West給我傳遞的一個(gè)總體信號是，由于受到智能手機及平板電腦產(chǎn)品的刺激，未來(lái)5年內的半導體產(chǎn)品消費需求前景光明。 但是這次會(huì )上有關(guān)450mm規格轉換具體會(huì )在哪一個(gè)節點(diǎn)處啟動(dòng)這個(gè)問(wèn)題，則充滿(mǎn)了爭議和懸念。也許目前想要得到這個(gè)問(wèn)題的確切答案幾乎是不可能的，因為當有的廠(chǎng)商比如Intel推出9nm節點(diǎn)制程時(shí)，其它幾家主要的芯片代工廠(chǎng)有可能才剛剛開(kāi)始11nm制程的試產(chǎn)。 |
