PCB高精密化并不是簡(jiǎn)單的事情,它對企業(yè)的設備與操作人員的經(jīng)驗提出了更高標準的同時(shí),還是生產(chǎn)技術(shù)中不可規避的重要難題。今天我們就來(lái)聊聊,PCB線(xiàn)路板的高精密化我們需要具備哪些條件? 線(xiàn)路板高精密度化是指采用細密線(xiàn)寬/間距、微小孔、狹窄環(huán)寬(或無(wú)環(huán)寬)和埋、盲孔等技術(shù)達到高密度化。而高精度是指“細、小、窄、薄”的結果必然帶來(lái)精度高的要求,以線(xiàn)寬為例:0.20mm線(xiàn)寬,按規定生產(chǎn)出0.16~0.24mm為合格,其誤差為(0.20土0.04)mm;而0.10mm的線(xiàn)寬,同理其誤差為(0.1±0.02)mm,顯然后者精度提高1倍,依此類(lèi)推是不難理解的,因此高精度要求不再單獨論述。但卻是生產(chǎn)技術(shù)中一個(gè)突出的難題。 ![]() 細密導線(xiàn)技術(shù) 今后的高細密線(xiàn)寬/間距將由0.20mm-0.13mm-0.08mm—0.005mm,才能滿(mǎn)足SMT和多芯片封裝(Mulitichip Package,MCP)要求。因此要求采用如下技術(shù)。 ①基材 采用薄或超薄銅箔(<18um)基材和精細表面處理技術(shù)。 ②工藝 采用較薄干膜和濕法貼膜工藝,薄而質(zhì)量好的干膜可減少線(xiàn)寬失真和缺陷。濕法貼膜可填滿(mǎn)小的氣隙,增加界面附著(zhù)力,提高導線(xiàn)完整性和精度。 ③電沉積光致抗蝕膜 采用電沉積光致抗蝕膜(Electro-deposited Photoresist,ED)。其厚度可控制在5~30/um范圍,可生產(chǎn)更完美的精細導線(xiàn),對于狹小環(huán)寬、無(wú)環(huán)寬和全板電鍍尤為適用,目前全球已有十多條ED生產(chǎn)線(xiàn)。 ④平行光曝光技術(shù) 采用平行光曝光技術(shù)。由于平行光曝光可克服“點(diǎn)”光源的各向斜射光線(xiàn)帶來(lái)線(xiàn)寬變幅等的影響,因而可得線(xiàn)寬尺寸精確和邊緣光潔的精細導線(xiàn)。但平行曝光設備昂貴,投資高,并要求在高潔凈度的環(huán)境下工作。 ⑤自動(dòng)光學(xué)檢測技術(shù) 采用自動(dòng)光學(xué)檢測技術(shù)。此技術(shù)已成為精細導線(xiàn)生產(chǎn)中檢測的必備手段,正得到迅速推廣應用和發(fā)展。 以上是實(shí)現PCB線(xiàn)路板高精密化的具體要求,這些條件與技術(shù),深圳捷多邦經(jīng)驗豐富的技術(shù)人員早就掌握了,因而面對客戶(hù)對線(xiàn)路板的高要求,我們也能為客戶(hù)交上一份滿(mǎn)意的答卷。 捷多邦PCB免費打樣_高TG免費打樣_1-4層PCB板免費打樣:www.jdbpcb.com/QB |