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來(lái)源：快科技 當ASML的EUV光刻機還在為制造2nm、1nm芯片發(fā)愁的時(shí)候，美國公司卻在另一個(gè)先進(jìn)光刻方向上取得了突破，Zyvex使用電子束光刻技術(shù)制造了768皮米，也就是0.7nm的芯片，這種芯片可用于量子計算機。 Zyvex推出的光刻系統名為ZyvexLitho1，基于STM掃描隧道顯微鏡，使用的是EBL電子束光刻方式，制造出了0.7nm線(xiàn)寬的芯片，這個(gè)精度是遠高于EUV光刻系統的，相當于2個(gè)硅原子的寬度，是當前制造精度最高的光刻系統。 
這個(gè)光刻機制造出來(lái)的芯片主要是用于量子計算機，可以制造出高精度的固態(tài)量子器件，以及納米器件及材料，對量子計算機來(lái)說(shuō)精度非常重要。 ZyvexLitho1不僅是精度最高的電子束光刻機，而且還是可以商用的，Zyvex公司已經(jīng)可以接受其他人的訂單，機器可以在6個(gè)月內出貨。 EBL電子束光刻機的精度可以輕松超過(guò)EUV光刻機，然而這種技術(shù)的缺點(diǎn)也很明顯，那就是產(chǎn)量很低，無(wú)法大規模制造芯片，只適合制作那些小批量的高精度芯片或者器件，指望它們取代EUV光刻機也不現實(shí)。 |
