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來(lái)源：大半導體產(chǎn)業(yè)網(wǎng) 據佳能中國官微消息，佳能將于2023年2月21日推出半導體制造用晶圓測量機“MS-001”，該產(chǎn)品可以對晶片進(jìn)行高精度的對準測量。 
（圖源：佳能中國） 據悉，新產(chǎn)品“MS-001”所搭載的調準用示波器安裝有區域傳感器，可以進(jìn)行多像素測量，降低測量時(shí)的噪音。另外，“MS-001”還可以對多個(gè)種類(lèi)的對準標記進(jìn)行測量。通過(guò)采用新開(kāi)發(fā)的調準用示波器光源，新產(chǎn)品可提供的波長(cháng)范圍比在半導體光刻設備中測量時(shí)大1.5倍。 通過(guò)引進(jìn)解決方案平臺“Lithography Plus”，可以將有關(guān)半導體光刻機和“MS-001”的運轉情況的相關(guān)信息集中到“Lithography Plus”中。通過(guò)數據對照監測，可以檢測出晶圓表面對準信息的變化，并在半導體光刻機上進(jìn)行自動(dòng)校正。 |
