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來(lái)源：集微網(wǎng) 3月13日，佳能官宣發(fā)售面向前道工序的半導體光刻機新產(chǎn)品——i線(xiàn)步進(jìn)式光刻機“FPA-5550iX”，該產(chǎn)品能夠同時(shí)實(shí)現0.5μm（微米）高解像力與50 x 50mm大視場(chǎng)曝光。 該產(chǎn)品可應用于全畫(huà)幅CMOS傳感器制造領(lǐng)域中，也可應用于頭戴顯示器等小型顯示設備的曝光工序中。此外，隨著(zhù)先進(jìn)的XR器件顯示器需求增加，該產(chǎn)品也可廣泛應用于大視場(chǎng)、高對比度的微型OLED顯示器制造。新產(chǎn)品“FPA-5550iX”不僅能夠應用于半導體器件制造，也可以在最先進(jìn)的XR器件顯示器制造等更廣泛的器件制造領(lǐng)域發(fā)揮其作用。 “FPA-5550iX”主要特點(diǎn)有： 1、通過(guò)制造方法的革新，兼顧高解像力與大視場(chǎng)曝光，實(shí)現更加穩定的鏡頭供應； 2、通過(guò)采用可讀取各類(lèi)對準標記的調準用示波器，進(jìn)一步加強制程對應能力。 |
