IBM、美光等將與紐約共建100億美元芯片園區,引進(jìn)EUV光刻機

發(fā)布時(shí)間:2023-12-12 15:17    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: IBM , 美光 , 紐約 , 芯片園區 , 光刻機
來(lái)源:全球半導體觀(guān)察

12月11日,美國紐約州州長(cháng)凱西·霍楚爾宣布,將聯(lián)合IBM、美光等公司投資100億美元,在紐約州立大學(xué)奧爾巴尼分校建設芯片產(chǎn)業(yè)園區,并且還將利用州政府的資金購買(mǎi)ASML的High-NA(高數值孔徑)EUV光刻機。

據悉,負責監督奧爾巴尼納米科技園的非營(yíng)利性機構“紐約制造”(NY Creates)將協(xié)調該研究設施的建設;舫栟k公室稱(chēng),一旦設備安裝完畢,該項目及其合作伙伴將在那里開(kāi)始下一代芯片的制造工作。

這一100億美元的芯片園區項目,參與者包括IBM、美光、應用材料、東京電子等。

根據美國2022年確定的《芯片法案》,這一項目將有助于紐約爭取被確定為美國的芯片研究中心!缎酒ò浮反饲靶,將為美國國家半導體技術(shù)中心(NSTC)撥款110億美元,以促進(jìn)芯片研發(fā)。

紐約州將投資10億美元購買(mǎi)ASML的High-NA EUV光刻機,預計2025年可以投產(chǎn);此外還將建造一座占地5萬(wàn)平方英尺的芯片制造大樓,建設工程將耗時(shí)兩年左右。

據悉,紐約州是多家大型芯片工廠(chǎng)的所在地,其中包括格芯、安森美、Wolfspeed等。美光公司此前也計劃向錫拉丘茲附近的一家大型工廠(chǎng)投資高達1000億美元,希望通過(guò)《芯片法案》獲得資金。
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