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來(lái)源：愛(ài)集微 三星晶圓代工部門(mén)近日透露，預計將于2027年推出1.4nm制程工藝、芯片背面供電網(wǎng)絡(luò )（BSPDN）和硅光子技術(shù)。三星于6月13日在美國圣何塞舉行三星代工論壇，透露了該公司在人工智能（AI）時(shí)代的部分路線(xiàn)圖。 三星晶圓代工廠(chǎng)業(yè)務(wù)部門(mén)主管崔時(shí)榮（Siyoung Choi）在主題演講中強調，高性能和低功耗芯片是實(shí)現AI的最重要因素。該公司還推出了一項名為“三星人工智能解決方案”的交鑰匙一站式服務(wù)，可以讓客戶(hù)利用三星的晶圓代工、存儲芯片和高級封裝服務(wù)。三星表示，這將簡(jiǎn)化客戶(hù)的供應鏈，并使其產(chǎn)品發(fā)布速度提升20%。該公司透露，在過(guò)去一年時(shí)間內，其AI相關(guān)訂單猛增80%。 此次論壇期間，三星還分享了將在2027年推出硅光子技術(shù)的計劃，這也是三星首次宣布采用硅光子技術(shù)。該技術(shù)在芯片上利用光纖傳輸數據，相比傳統線(xiàn)纜/電路可以大幅提升I/O數據傳輸速度。此外，三星也投資了硅光子技術(shù)公司Celestial AI。 三星表示，采用BSPDN技術(shù)的2nm制程工藝也將于2027年推出。這一時(shí)間晚于其競爭對手英特爾將于2024年推出類(lèi)似技術(shù)的計劃。BSPDN技術(shù)將供電電路設計在晶圓背面，可以避開(kāi)信號線(xiàn)，防止相互干擾。該技術(shù)可顯著(zhù)提升芯片功率、性能和面積效率。 三星透露其2nm工藝路線(xiàn)圖：用于移動(dòng)領(lǐng)域的SF2和SF2P將分別于2025年和2026年推出；面向人工智能和高性能計算（HPC）的2nm工藝將于2026年推出，早于BSPDN工藝。該公司還將在2027年推出用于汽車(chē)的2nm工藝。 三星重申，計劃于2027年推出1.4nm工藝，目前正在確保該技術(shù)的性能和良率。該公司計劃于2025年采用ASML High NA EUV光刻機，用于1.4nm制程芯片制造。 |
