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3月11日，光刻設備巨頭荷蘭阿斯麥（ASML）與比利時(shí)微電子研究中心（imec）共同宣布，雙方已簽署了一項新的五年期戰略合作協(xié)議。這一合作標志著(zhù)兩家在半導體領(lǐng)域具有深厚底蘊的機構將攜手共進(jìn)，共同推動(dòng)半導體行業(yè)的創(chuàng )新與發(fā)展。 根據協(xié)議內容，ASML與imec將在先進(jìn)工藝和可持續發(fā)展領(lǐng)域發(fā)揮各自的知識和專(zhuān)長(cháng)。雙方的合作將重點(diǎn)聚焦于開(kāi)發(fā)推動(dòng)半導體行業(yè)發(fā)展的解決方案，并制定以可持續創(chuàng )新為重點(diǎn)的計劃。在半導體工藝方面，imec牽頭建設的后2nm制程前沿節點(diǎn)SoC中試線(xiàn)NanoIC將導入包括High NA EUV光刻機在內的一系列ASML先進(jìn)設備。這些設備的引入將為NanoIC中試線(xiàn)提供強大的技術(shù)支持，加速后2nm制程技術(shù)的研發(fā)與商業(yè)化進(jìn)程。 除了半導體工藝領(lǐng)域的合作外，ASML與imec還將在硅光子學(xué)、存儲和先進(jìn)封裝等前沿領(lǐng)域展開(kāi)深入合作。這些領(lǐng)域的合作將有助于雙方共同探索半導體技術(shù)的未來(lái)發(fā)展方向，并為整個(gè)半導體生態(tài)系統提供創(chuàng )新的解決方案。 值得一提的是，ASML還將為imec探索環(huán)境和社會(huì )效益的創(chuàng )新想法和活動(dòng)提供資金支持。這一舉措體現了ASML對可持續創(chuàng )新的重視，并彰顯了其在推動(dòng)半導體行業(yè)可持續發(fā)展方面的決心。 ASML總裁兼首席執行官Christophe Fouquet在簽約儀式上表示：“這項協(xié)議標志著(zhù)ASML和imec之間的長(cháng)期合作邁出了新的一步。它標志著(zhù)我們共同為半導體行業(yè)開(kāi)發(fā)解決方案的雄心壯志，也符合我們投資技術(shù)和創(chuàng )新以造福全社會(huì )的戰略�！� imec總裁兼首席執行官Luc Van den Hove也對此次合作表示了高度期待：“我們很高興能繼續與ASML保持長(cháng)期獨特的合作關(guān)系。30多年來(lái)，我們?yōu)闃I(yè)界提供了最先進(jìn)的圖案化解決方案。ASML完整產(chǎn)品組合的加入將使我們中試線(xiàn)的能力進(jìn)一步增大和成熟，為整個(gè)半導體生態(tài)系統提供最先進(jìn)的研發(fā)技術(shù)，以應對AI驅動(dòng)的技術(shù)進(jìn)步所帶來(lái)的挑戰。由于imec非常重視可持續創(chuàng )新，因此將這一事項明確納入我們的合作伙伴關(guān)系是一個(gè)很好的補充�！� |
