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9月7日，荷蘭政府正式公布了關(guān)于浸潤式深紫外（DUV）光刻機出口的新規定，標志著(zhù)全球半導體行業(yè)格局迎來(lái)新一輪調整。根據這一新規，全球光刻機巨頭阿斯麥（ASML）在出口其TWINSCAN NXT:1970i和1980i兩款中等系列DUV光刻機時(shí)，需向荷蘭政府申請出口許可證，而非此前的美國政府。該新規自今日起生效，將對全球半導體供應鏈產(chǎn)生深遠影響。 荷蘭貿易部長(cháng)雷內特·克萊弗在宣布這一決定時(shí)表示：“隨著(zhù)技術(shù)的不斷進(jìn)步，這些特定生產(chǎn)機器的出口確實(shí)可能涉及更多的敏感信息和技術(shù)泄露風(fēng)險。出于安全考慮，我們決定加強對這些設備的出口管制�！彼瑫r(shí)強調，這一決策并非針對任何特定國家，而是基于技術(shù)進(jìn)步帶來(lái)的安全風(fēng)險的全面評估。 阿斯麥作為全球領(lǐng)先的光刻機供應商，其產(chǎn)品在全球半導體制造中占據重要地位。根據新規，ASML需要為其TWINSCAN NXT:1970i和1980i兩款中等系列DUV光刻機向荷蘭政府申請出口許可證，而不是之前一直負責審批的美國政府。ASML迅速對此作出回應，表示將積極適應新規定，并相信這一調整將使出口許可證的發(fā)放方式更加協(xié)調統一。 ASML在一份官方聲明中指出，雖然新規可能增加公司的運營(yíng)成本和時(shí)間成本，但預計不會(huì )對其2024年的財務(wù)前景或長(cháng)期增長(cháng)計劃產(chǎn)生重大影響。公司首席執行官溫寧格·彼得強調：“中國市場(chǎng)是全球半導體產(chǎn)業(yè)鏈不可或缺的一部分，ASML將繼續致力于與全球客戶(hù)合作，共同推動(dòng)半導體行業(yè)的繁榮發(fā)展�！� 值得注意的是，此次荷蘭政府調整出口管制政策，背后是復雜的國際博弈。近年來(lái)，美國一直試圖通過(guò)加強對全球半導體產(chǎn)業(yè)的控制，限制競爭對手的發(fā)展。荷蘭作為半導體產(chǎn)業(yè)鏈的重要一環(huán)，其政策調整無(wú)疑是在這一背景下作出的重要決定。然而，荷蘭政府收回出口許可證審批權，也釋放出其在半導體芯片這一關(guān)鍵戰略領(lǐng)域將更加注重自身自主權和利益的信號。 市場(chǎng)分析人士指出，荷蘭政府的新規可能對全球半導體供應鏈產(chǎn)生連鎖反應。一方面，依賴(lài)ASML光刻機的客戶(hù)可能需要重新評估供應鏈和生產(chǎn)計劃，以適應新的出口規定；另一方面，這也可能促使更多企業(yè)開(kāi)始考慮多元化采購策略，以降低對單一供應商的依賴(lài)。 |
