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作者: Dylan McGrath 英特爾出錢(qián)資助極紫外線(xiàn)（EUV）光刻技術(shù)的研發(fā)，但該技術(shù)仍然是項進(jìn)展中的工作。當英特爾公司前不久投入41億美元的股票和資金，以幫助提高450mm晶圓和EUV光刻工具的研發(fā)力度時(shí)，極紫外光刻技術(shù)的支持者有理由感到鼓舞。 “這是我在很長(cháng)一段時(shí)間聽(tīng)到的最好消息�！盋ymer公司EUV營(yíng)銷(xiāo)和業(yè)務(wù)發(fā)展高級主管David Brandt表示。Cymer是ASML的長(cháng)期光源開(kāi)發(fā)商。 在確保EUV技術(shù)按計劃發(fā)展以使該技術(shù)能投產(chǎn)方面，英特爾已有既得利益，即使該技術(shù)的研發(fā)進(jìn)度比英特爾最初預期的慢得多。英特爾和其它屈指可數的領(lǐng)先芯片制造商有一切理由支持具成本效益的EUV光刻技術(shù)，以將其從將193nm光學(xué)光刻擴展到10nm及更精微節點(diǎn)的痛苦和開(kāi)支中解救出來(lái)。Brandt和其他人將英特爾對EUV的支持看作是對該再三延期推出技術(shù)的可行性的背書(shū)。 但僅有英特爾的資助尚不足以使EUV投入生產(chǎn)。雖然有報道說(shuō)，EUV技術(shù)又有增量發(fā)展，但仍有工作要做——就如同該技術(shù)在半導體國際技術(shù)路線(xiàn)圖（ITRS）最初發(fā)布時(shí)一樣。對EUV來(lái)說(shuō)，最好的結果是，距批量生產(chǎn)仍有幾年時(shí)間，它仍然沒(méi)有穩操勝券。 在前不久的SEMICON West展會(huì )的演講中，Toppan Photomasks的首席技術(shù)官Franklin Kalk表示：源功率、掩膜缺陷和光致抗蝕劑性能仍是使用EUV技術(shù)生產(chǎn)芯片所面臨的三個(gè)問(wèn)題。但Kalk表示，源功率仍然是主要障礙，它位列頭號障礙已有時(shí)日。 三年前，Kalk說(shuō)，掩膜缺陷被認為是EUV的主要絆腳石，并因此成為T(mén)oppan和其競爭對手的“眼中釘”。但在過(guò)去兩年，未能開(kāi)發(fā)出強大、可靠、足以提供足夠工具吞吐量的源已成為最大問(wèn)題�！拔蚁Ｍ垂β蕰�(huì )足夠大，以使他們開(kāi)始再次將注意力轉向掩膜�！� 芯片制造商需要每小時(shí)100至150片晶圓吞吐量的EUV工具，以使采用EUV技術(shù)的生產(chǎn)具成本效益。一些人認為每小時(shí)60至80片晶圓的工具吞吐量將是效益起始點(diǎn)。目前，連起始點(diǎn)吞吐量都達不到；雖然AMSL的首席執行官Eric Meurice在近日表示，研究進(jìn)展顯示EUV的吞吐量將有望在2014年和2016年分別達到每小時(shí)70片和125片晶圓。 更多的進(jìn)展 近日，其它EUV技術(shù)的進(jìn)步也有報道： 源功率：Cymer的技術(shù)營(yíng)銷(xiāo)副總裁Nigel Farrar說(shuō)，采用預脈沖（在主脈沖前，對目標進(jìn)行預處理）、使用閉環(huán)控制、在完全重復速率條件下，在其HVM I源，Cymer現已能實(shí)現約50W的曝光功率。（早在二月，Cymer也曾報告過(guò)50W的平均功耗，但是在開(kāi)環(huán)測試條件下，不計在現場(chǎng)用于提高穩定性對系統進(jìn)行的降低功率的控制。） Meurice說(shuō)，實(shí)驗室實(shí)驗已證明可達到105瓦，從而支持了ASML的路線(xiàn)圖——在2014年達到每小時(shí)70片、在2016年升級到125片晶圓。他告誡說(shuō)，仍需現場(chǎng)試驗（而不是實(shí)驗室實(shí)驗）來(lái)驗證該路線(xiàn)圖。Meurice表示，即使現在A(yíng)SML停止開(kāi)發(fā)，實(shí)驗室數據也表明，ASML公司的NXE:3300生產(chǎn)工具——安裝在幾家客戶(hù)現場(chǎng)的預生產(chǎn)NXE 3100系統的繼任者，基于其優(yōu)越的架構和能源效率，也將支持每小時(shí)30至40片晶圓的吞吐量。（目前停止研發(fā)，當然這并非計劃）。 源可用性：Farrar說(shuō)，過(guò)去兩個(gè)季度，Cymer的HVM I源一直具有約70％的可用性，而以前季度是50％。只有約10％的停機時(shí)間在意料之外，其余的都是計劃中的維護時(shí)間。 源集熱器的耐久性：在超過(guò)300億次脈沖下，Cymer已證明其EUV源集熱器的穩定反射率。集熱器的反射率是關(guān)鍵問(wèn)題，因為更換集熱器是件相當費勁的事，而集熱器的性能會(huì )隨著(zhù)時(shí)間而減弱。Cymer公司不知道更換一次源集熱器可以工作多久，但一年多、300億個(gè)脈沖令人鼓舞。 掩膜缺陷：Kalk承認，EUV掩膜不是無(wú)缺陷的。Kalk說(shuō)，由于相關(guān)的復雜性，每個(gè)EUV掩膜坯(mask blank)都會(huì )有缺陷，多層掩膜坯缺陷無(wú)法修復。但掩膜缺陷必須足夠少，以保證不影響工作，他說(shuō)。在存儲器生產(chǎn)情況下，設計模式有足夠冗余，如果掩膜制造商知道缺陷在哪里，就可以相應地移動(dòng)和旋轉掩膜，以避開(kāi)缺陷書(shū)寫(xiě)模式。需要提升坯和膜檢測工具的性能，以及掩膜書(shū)寫(xiě)器的精度，Kalk指出。 掩膜耐久性：在被用于大批量生產(chǎn)前，沒(méi)人知道EUV掩模究竟能持續工作多長(cháng)時(shí)間。Kalk說(shuō)，不同的掩膜耐久性問(wèn)題——包括掩膜表面出現斑點(diǎn)以及隨后掩膜吸收器性能的退化 (取決月基于掩膜曝光次數)，在引入193nm光刻技術(shù)的最初六年左右會(huì )出現�！拔覀冮_(kāi)始遇到問(wèn)題�！盞alk說(shuō)，“我甚至不知道會(huì )在哪里，但我們肯定會(huì )遇到問(wèn)題�！� 所需工具：要到2018年左右，EUV掩膜所需的完整工具包才會(huì )到位，Kalk說(shuō)。他說(shuō)，需要進(jìn)一步研發(fā)坯和掩膜檢測工具，以及用于光罩缺陷和可印性分析的卡爾蔡司EUV光化空氣圖像測量系統（AIMS）。Kalk表示，在完整的掩膜工具包到位前，可實(shí)施EUV插入，但將需要一個(gè)“橋梁策略”。隨著(zhù)生產(chǎn)最終會(huì )上量，新問(wèn)題會(huì )出現，他說(shuō)。 |
