道康寧公司今天推出全新碳化硅(SiC)晶體分級結構,為碳化硅晶體創(chuàng )立了行業(yè)新標準。新分級結構對相關(guān)致命性產(chǎn)品缺陷,如微管位錯(MPD)、螺紋螺位錯(TSD)、和基面位錯( BPD)等,具有更嚴格的容忍度。 這一開(kāi)創(chuàng )性分級結構旨在優(yōu)化使用道康寧高品質(zhì)Prime Grade系列100 mm 碳化硅晶片設計和制造的新一代電力電子器件的設計自由度、性能和成本。道康寧公司目前向市場(chǎng)提供Prime Standard、Prime Select 和 Prime Ultra的三種不同品質(zhì)的新型碳化硅襯底。 “作為先進(jìn)碳化硅材料技術(shù)的全球領(lǐng)先企業(yè),道康寧公司認識到,寬帶隙半導體技術(shù)在提供高品質(zhì)產(chǎn)品的同時(shí),更應著(zhù)眼于賦予客戶(hù)卓越的整體價(jià)值,”道康寧公司首席技術(shù)官Gregg Zank表示。 “這種全新碳化硅晶體分級結構是道康寧公司為行業(yè)帶來(lái)的又一項首創(chuàng ),完全契合我們的這種理念,它也是我們與全球電力電子器件領(lǐng)先制造商密切合作的成果,不同的選擇有助于幫助他們以最優(yōu)的成本,快速實(shí)現其不斷發(fā)展和創(chuàng )新的設計目標! 道康寧公司新產(chǎn)品分級結構中的各個(gè)Prime Grade系列晶圓產(chǎn)品為缺陷密度及其他關(guān)鍵性能設置了更嚴格的公差范圍,客戶(hù)可以根據特定器件的應用要求,在硅片質(zhì)量和價(jià)格之間獲得最好的平衡。 雖然已有不少碳化硅襯底制造商承諾要降低微管密度,但道康寧公司是首家對包括TSD及BPD在內的其它致命性缺陷公差作出明確定義的企業(yè)。這些缺陷會(huì )降低器件的成品率及生產(chǎn)效率,且會(huì )影響大面積、新一代電力電子器件制造的成本效益。 道康寧公司全部Prime Grade系列100 mm碳化硅晶片具有一貫優(yōu)良的機械特性,確保與現有的和正在開(kāi)發(fā)的設備制造工藝相容。Prime Grade系列產(chǎn)品包括: • Prime Standard碳化硅晶片:可確保MPD≤0.5 cm-2,對于簡(jiǎn)單碳化硅電力電子器件的設計,如肖特基或結勢壘肖特基二極管,是一種可在性能和成本之間獲得平衡的極有吸引力的選擇方案,適用于較低到中等額定電流值。 • Prime Select碳化硅晶片:公差更嚴格(MPD≤0.5 cm-2)和(BPD ≤800 cm-2),適用于要求更高的碳化硅設備,如直插式二極管或開(kāi)關(guān)。 • Prime Ultra碳化硅晶片:可滿(mǎn)足對晶體質(zhì)量要求最高的高功率器件的設計。這一等級的碳化硅襯底MPD(≤0.1 cm-2),BPD(≤500 cm-2),TSD (≤300 cm-2)極低,晶片電阻率分布范緊密,適用于當今最先進(jìn)的碳化硅電力電子器件的設計,包括金屬 - 氧化物 - 半導體場(chǎng)效應晶體管(MOSFET)、結柵場(chǎng)效應晶體管(JFET)、絕緣柵雙極型晶體管(IGBT)、以及雙極型晶體管(BJT)或直插式二極管交換設備。此外,這一等級基材品質(zhì)優(yōu)異,在高電壓(3.3 kV及更高版本)和大額定電流設備中使用非常有優(yōu)勢。 “對不同等級晶片品質(zhì)的公差進(jìn)行精確界定,加上道康寧公司極具競爭力的定價(jià)結構,反映了公司對硅基半導體市場(chǎng)中不同競爭需求的深刻把握,”道康寧公司化合物半導體解決方案副總裁Tang Yong Ang表示,“道康寧公司在卓越的技術(shù)、應用專(zhuān)業(yè)的知識和硅材料協(xié)同創(chuàng )新方面擁有深厚的積淀,同時(shí)又能將之應用到新一代化合物半導體技術(shù)發(fā)展之上,很少有競爭對手能做到這點(diǎn)。憑借這種全新晶片分級結構,我們希望為業(yè)界帶來(lái)具有高品質(zhì)的碳化硅襯底,幫助世界各地的客戶(hù)在快速增長(cháng)的電力電子行業(yè)展開(kāi)競爭并取得成功。 有關(guān)100 mm碳化硅晶片的Prime Standard、Prime Select 和 Prime Ultra等級標準,可從道康寧公司全球各個(gè)機構獲取,供標準化生產(chǎn)的開(kāi)發(fā)和打樣之用。 |