ASML看好中國市場(chǎng):最先進(jìn)光刻機很快將入華

發(fā)布時(shí)間:2018-9-20 10:56    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: ASML , 光刻機 , 7nm
來(lái)源:myDrivers

中國集成電路制造年會(huì )近日邀請到了光刻機霸主ASML(阿斯麥)中國區總裁沈波參加,他出面解答了一些媒體關(guān)心的話(huà)題。

盡管UMC(聯(lián)電)和Globalfoundries(格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進(jìn)工藝的研發(fā),但ASML依然對EUV光刻機的前景表示樂(lè )觀(guān)。

此前有消息指出,中芯國際(SMIC)今年已向ASML訂購了一臺EUV光刻機,預計明年交付,用于7nm節點(diǎn)。

同時(shí),傳統的沉浸式光刻機方面,沈波稱(chēng),今年下半年ASML已開(kāi)始出貨家族最先進(jìn)的NXT:2000i,很快會(huì )在中國市場(chǎng)上也見(jiàn)到。
另外,媒體早先有報道稱(chēng),長(cháng)江存儲、上海華虹半導體分別向ASML訂購了193納米浸沒(méi)式光刻機和193納米雙工件臺沉浸式光刻機NXT:1980Di,分別用于存儲芯片制造、晶圓代工。

據悉,ASML今年第一季度和第二季度的財報顯示,大陸市場(chǎng)的銷(xiāo)售收入占比達到了20%左右,已與美國持平,且超過(guò)了臺灣地區。

ASML今年的EUV光刻機產(chǎn)能將達到20臺,明后兩年將逐步提升到40臺。
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