中國第四代半導體新突破 6英寸氧化鎵單晶實(shí)現產(chǎn)業(yè)化

發(fā)布時(shí)間:2024-3-21 15:08    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: 第四代半導體 , 氧化鎵
來(lái)源:快科技

近日,杭州鎵仁半導體有限公司宣布,公司聯(lián)合浙江大學(xué)杭州國際科創(chuàng )中心先進(jìn)半導體研究院、硅及先進(jìn)半導體材料全國重點(diǎn)實(shí)驗室。

采用自主開(kāi)創(chuàng )的鑄造法,成功制備了高質(zhì)量6英寸非故意摻雜及導電型氧化鎵單晶,并加工獲得了6英寸氧化鎵襯底片。

完全自主產(chǎn)權 中國第四代半導體新突破!6英寸氧化鎵單晶實(shí)現產(chǎn)業(yè)化


6英寸導電型氧化鎵襯底

杭州鎵仁半導體,也成為國內首個(gè)掌握6英寸氧化鎵單晶襯底制備技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化公司。

據介紹,氧化鎵因其優(yōu)異的性能和低成本的制造,成為目前最受關(guān)注的超寬禁帶半導體材料之一,被稱(chēng)為第四代半導體材料。

該材料主要用于制備功率器件、射頻器件及探測器件,在軌道交通、智能電網(wǎng)、新能源汽車(chē)、光伏發(fā)電、5G移動(dòng)通信、國防軍工等領(lǐng)域,均具有廣闊應用前景。

完全自主產(chǎn)權 中國第四代半導體新突破!6英寸氧化鎵單晶實(shí)現產(chǎn)業(yè)化


6英寸非故意摻雜(上)與導電型(下)氧化鎵單晶

該公司表示,此次制備6英寸氧化鎵襯底采用的鑄造法,具有以下顯著(zhù)優(yōu)勢:

第一,鑄造法成本低,由于貴金屬I(mǎi)r的用量及損耗相比其他方法大幅減少,成本顯著(zhù)降低;

第二,鑄造法簡(jiǎn)單可控,其工藝流程短、效率高、尺寸易放大;

第三,鑄造法擁有完全自主知識產(chǎn)權,中國和美國專(zhuān)利已授權,為突破國外技術(shù)壟斷,實(shí)現國產(chǎn)化替代奠定堅實(shí)基礎。

目前而言,日本的NCT在氧化鎵襯底方面,仍占據著(zhù)領(lǐng)先地位,但國內也總體呈現追趕態(tài)勢。
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