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在我國集成電路產(chǎn)業(yè)蓬勃發(fā)展的背景下，東方晶源科技股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“東方晶源”）今日宣布，其自主研發(fā)的新一代電子光學(xué)系統（Electron Optical System，簡(jiǎn)稱(chēng)EOS）已成功搭載到旗下多款高端電子束量測檢測設備中，實(shí)現了國產(chǎn)EOS在高端量測檢測領(lǐng)域的突破性應用。這一里程碑式的成就，不僅標志著(zhù)東方晶源在電子束量測檢測領(lǐng)域的技術(shù)實(shí)力達到了國際領(lǐng)先水平，更為我國集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和進(jìn)步奠定了堅實(shí)基礎。 作為電子束量測檢測領(lǐng)域的先行者和領(lǐng)跑者，東方晶源始終堅持自主研發(fā)，不斷深化研發(fā)投入，加速技術(shù)創(chuàng )新步伐。此次推出的新一代EOS，是東方晶源技術(shù)團隊多年努力的結晶，其成功搭載到電子束缺陷復檢設備（DR-SEM）、關(guān)鍵尺寸量測設備（CD-SEM）和電子束缺陷檢測設備（EBI）中，標志著(zhù)國產(chǎn)EOS在高端量測檢測領(lǐng)域的應用邁出了堅實(shí)的一步。 DR-SEM是一款基于超高分辨率電子束成像技術(shù)的設備，主要用于對芯片制造過(guò)程中的缺陷進(jìn)行復檢分析，包括形貌分析和成分分析等。東方晶源新一代DR-SEM EOS采用了適配自研的多通道高速探測器，支持多信號類(lèi)型分析檢測，兼容EDX成分分析功能，能夠覆蓋廣泛的缺陷復檢應用場(chǎng)景。同時(shí)，搭配高精度定位技術(shù)，新一代DR-SEM EOS的檢測精度和速度均達到了業(yè)界主流水準，為芯片制造過(guò)程中的質(zhì)量控制提供了有力保障。 CD-SEM作為產(chǎn)線(xiàn)量測的基準設備，對EOS的核心技術(shù)需求在于高分辨、高產(chǎn)能和高穩定性。東方晶源新一代CD-SEM EOS通過(guò)采用球色差優(yōu)化的物鏡、像差補償技術(shù)和自動(dòng)校正技術(shù)等新方案，實(shí)現了高成像分辨率和高量測精度，達到了業(yè)界一流水平。同時(shí)，自研探測器針對頻響和信噪比進(jìn)行了優(yōu)化，支持快速圖像采集，結合高速AFC技術(shù)，可以在不損失精度的情況下大幅提升量測產(chǎn)能。這一技術(shù)方案確保了CD-SEM在產(chǎn)線(xiàn)量測中的穩定性和一致性，進(jìn)一步提升了生產(chǎn)效率。 針對國內領(lǐng)先的邏輯與存儲客戶(hù)產(chǎn)線(xiàn)檢測需求，EBI EOS在保證檢測精度的前提下，重點(diǎn)提升了檢測速度。東方晶源最新研發(fā)的EBI EOS通過(guò)四大技術(shù)手段在檢測精度和速度上進(jìn)行了顯著(zhù)的優(yōu)化與提升，滿(mǎn)足了客戶(hù)對高效、精準檢測的需求。 隨著(zhù)半導體工藝水平的飛速發(fā)展，電子束在線(xiàn)量測檢測的重要性日益凸顯。東方晶源在高速成像和多電子束技術(shù)方面取得了重要突破，實(shí)現了相關(guān)技術(shù)的原理驗證，為提升設備產(chǎn)能和滿(mǎn)足市場(chǎng)需求提供了有力支持。 |
