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武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“太紫微公司”）近日推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品，成功通過(guò)了嚴格的半導體工藝量產(chǎn)驗證。這一突破標志著(zhù)中國在高端光刻膠領(lǐng)域取得了重要進(jìn)展，為半導體產(chǎn)業(yè)的自主可控發(fā)展注入了強勁動(dòng)力。 太紫微公司，這家于2024年5月剛剛成立的企業(yè)，背后有著(zhù)華中科技大學(xué)武漢光電國家研究中心團隊的強力支撐。該團隊在電子化學(xué)品領(lǐng)域深耕二十余年，致力于關(guān)鍵光刻膠底層技術(shù)的研發(fā)。此次推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品，正是團隊多年努力的結晶。 據了解，T150 A光刻膠產(chǎn)品對標國際頭部企業(yè)的主流KrF光刻膠系列，其在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到了120nm，這一指標與被業(yè)內稱(chēng)為“妖膠”的國外同系列產(chǎn)品UV1610相比毫不遜色。更重要的是，T150 A在工藝寬容度、穩定性以及堅膜后烘留膜率等方面均表現出色，對后道刻蝕工藝也極為友好。密集圖形經(jīng)過(guò)刻蝕后，下層介質(zhì)的側壁垂直度依然能保持優(yōu)異狀態(tài)，這一特性使其在半導體制造中更具應用價(jià)值。 
太紫微公司的企業(yè)負責人朱明強教授，同時(shí)也是英國皇家化學(xué)會(huì )會(huì )員和華中科技大學(xué)的二級教授，他表示：“從原材料開(kāi)發(fā)起步，最終獲得自主知識產(chǎn)權的配方技術(shù)，這僅僅是一個(gè)開(kāi)端。團隊深知，要想真正在國內半導體光刻制造領(lǐng)域開(kāi)創(chuàng )嶄新局面，不能僅僅滿(mǎn)足于這一項成果�！币虼�，太紫微公司計劃繼續發(fā)力，發(fā)展一系列應用于不同場(chǎng)景下的KrF與ArF光刻膠，以滿(mǎn)足半導體產(chǎn)業(yè)日益多樣化的需求。 此次T150 A光刻膠產(chǎn)品通過(guò)量產(chǎn)驗證，不僅填補了國內在高端光刻膠領(lǐng)域的部分空白，還打破了國外在該領(lǐng)域的部分技術(shù)壟斷。這對于提升我國半導體產(chǎn)業(yè)的自主可控能力具有重要意義。隨著(zhù)國內半導體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，對高性能光刻膠的需求日益迫切。T150 A的成功量產(chǎn)，將為國內半導體企業(yè)提供更加可靠、穩定的光刻膠選擇，有助于推動(dòng)我國半導體產(chǎn)業(yè)向更高水平邁進(jìn)。 |
