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來(lái)源：DIGITIMES IC/SoC業(yè)者與封測業(yè)者合作，從系統級封裝(System In Package；SIP)邁向成熟階段的2.5D IC過(guò)渡性技術(shù)，以及尚待克服量產(chǎn)技術(shù)門(mén)檻的3D IC立體疊合技術(shù)；藉矽穿孔(TSV)、中介板(Interposer)等關(guān)鍵技術(shù)／封裝零組件的協(xié)助下，在有限面積內進(jìn)行最大程度的晶片疊加與整合，進(jìn)一步縮減SoC晶片面積／封裝體積并提升晶片溝通效率。 摩爾定律漸趨瓶頸 IC封裝朝立體天際線(xiàn)發(fā)展 過(guò)去40年來(lái)，摩爾定律(Moore’s Law)「每18個(gè)月電晶體數量／效能增加一倍，同時(shí)成本維持不變」的準則，使半導體產(chǎn)業(yè)快速走向規模經(jīng)濟與蓬勃發(fā)展，創(chuàng )造出許多資通訊產(chǎn)品(PC/DT/NB/SmartPhone/Tablet)，從外型、樣貌到應用的改變。但除了借助能縮減線(xiàn)路寬度、間距但成本高昂的先進(jìn)奈米制程技術(shù)之外，IC設計業(yè)者、晶圓廠(chǎng)與封裝業(yè)者也積極開(kāi)發(fā)各種封裝技術(shù)，在不縮減線(xiàn)距的奈米制程技術(shù)之下，在有限面積內進(jìn)行最大程度的晶片疊加與整合，同時(shí)縮減SoC晶片封裝體積與線(xiàn)路傳導長(cháng)度，進(jìn)而提升晶片傳輸效率。 從過(guò)去DIP、QFP、LCC、PGA、TSOP、WB BGA封裝，2000年起從朝向原始晶片尺寸化的封裝，如低價(jià)QFN、WL CSP(Wafer Level Chip Scale Package)、FC BGA/CSP、SIP，到2010年以后更進(jìn)一步朝向模組密集化、裸晶密集化，甚至3D立體化堆疊的技術(shù)，如2.5D Interposer、3D WLP、PoP(Package on Package)/PiP(Package in Package)以及3D IC技術(shù)等。 TSV矽穿孔技術(shù) TSV(Through Silicon Vias)矽穿孔技術(shù)是一種運用化學(xué)蝕刻或鐳射光穿透矽晶片的互連技術(shù)，取代過(guò)去基板與裸晶的打金線(xiàn)結合(Wire Bonding)的方式，它也是目前2.5D IC與3D IC中穿針引線(xiàn)的關(guān)鍵技術(shù)。其制程可分為先鉆孔(Via first)、結合Via-middle與后鉆孔(Via last)三種方式，在矽晶圓鉆出小洞后再以銅、多晶矽、鎢等導電物質(zhì)填滿(mǎn)，達成矽晶對矽晶、矽晶對中介層(interposer)線(xiàn)路連接導通的功能，最后將矽晶圓薄化再加以堆疊。 就目前發(fā)展藍圖，預估到2015年，全域WTW(Wafer to Wafer)、DTD(Die to Die)與DTD 3D推疊等TSV技術(shù)，可作到最小孔徑2~4μm，穿鑿層數2~4層，穿鑿深度20~50μm；中階層WTW/DTD/DTD 3D部份更可做到最小孔徑0.8~1.5μm，穿鑿層數8~16層(DRAM)，穿鑿深度6~10μm。 到目前為止，運用到TSV矽穿孔技術(shù)的晶片／應用產(chǎn)品，有結合光學(xué)鏡頭與CMOS影像處理晶片的影像感測器(CMOS Image Sensor；CIS)、整合微機電技術(shù)(MEMS)的感測器晶片，以及前述NAND、DRAM等晶片產(chǎn)品。未來(lái)將進(jìn)一步應用到功率放大器(PA)、異質(zhì)性整合3D IC晶片(Heterogeneous 3D IC)、LED磊晶整合照明晶片，以及光電轉換／收發(fā)晶片等應用。據Yole研究報告指出，使用TSV封裝的3DIC晶片或3D-WLCSP元件平臺，其產(chǎn)值將從2011年27億美元快速成長(cháng)到2017年的400億美元。 中介板(Interposer) 目前FC-BGA使用的封裝底板，是微米制程時(shí)代(μm)的連通標準，上層為40~250μm的C4 Bump連接凸塊，下層BGA錫球直徑為0.4~0.8mm。當進(jìn)入奈米制程時(shí)代(nm)，尤其是線(xiàn)路寬度微縮至12~28nm時(shí)，為了縮減晶片面積／封裝體積，裸晶以原晶片尺寸(Chip Scale)方式加以薄型化，底下僅留5~45μm的微凸塊(Microbumps)；往下連接到一個(gè)由耐熱薄型玻璃或矽基材質(zhì)制造的中介板(interposer)，再往下連接到40~250μm的C4 Bump凸塊。 這種加入中介板的四層連接材料的設計，使得裸晶面積大幅縮小，提升CMOS制程的晶圓良率，裸晶的對外拉線(xiàn)訊號密度可以提升10倍，晶片效能、功耗與封裝成本得以改善。因此也廣為跨入28nm制程以下3D IC、2.5D IC堆疊技術(shù)所采用。當接下來(lái)的異質(zhì)性整合3D IC(Heterogeneous)時(shí)，不同功耗／散熱屬性的各種裸晶之間，也可能透過(guò)中介板來(lái)相互連接，加以區隔各種工作溫度同時(shí)維持整體運作的穩定性。 3D IC技術(shù)蓄勢待發(fā) 臺積電(TSMC)曾在SEMATECH 2011論壇中，提出人類(lèi)大腦與當前密集度最高的機體電路的比較。以NVIDIA GF100圖形處理器晶片為例，它是單純2D區塊化設計，30億個(gè)電晶體數量，功耗達200W(40nm制程)。推估人類(lèi)大腦有1,000億個(gè)腦細胞單元，折算起來(lái)約1兆個(gè)電晶體，且腦神經(jīng)元網(wǎng)路顯然是3D立體堆疊連接，但大腦的功耗僅20W，如果期望未來(lái)的人工智慧晶片要能追上人類(lèi)大腦，差不多運算密集度要增加300倍，且功耗要縮減為1/10，推估至少得用到2nm制程，也就是從目前臺積電28nm制程算起再進(jìn)化7~8代制程(或18~20年)，未來(lái)平行化處理、低功耗綠色環(huán)保制程與3D IC矽晶疊合技術(shù)成為必然趨勢。 3D IC是將原裸晶尺寸的處理器晶片、可程式化邏輯閘(FPGA)晶片、記憶體晶片、射頻晶片(RF)或光電晶片，打薄之后直接疊合，并透過(guò)TSV鉆孔連接。就像一層樓的平房往上疊了好幾層成為大樓，從中架設電梯使每個(gè)樓層相互連通一樣。2006年4月韓國三星(Samsung)發(fā)表宣布將8個(gè)2Gb NAND矽晶圓堆疊，以TSV連接的快閃記憶體晶片，厚度僅560μm。2007年4月三星進(jìn)一步發(fā)表以4顆512Mb裸晶堆疊的DRAM，2010年量產(chǎn)8Gb DDR3，以及后續32Gb DDR3的計劃。 由于3D IC可改善記憶體、邏輯晶片甚至異質(zhì)性晶片的性能與可靠度，減低成本與縮小產(chǎn)品尺寸，根據TechNavio預測，預估2012至2016年全球3D IC市場(chǎng)的年復合成長(cháng)率為19.7%，成長(cháng)貢獻主要來(lái)自手機、平板電腦等行動(dòng)運算裝置的記憶體需求。目前包含臺積電(TSMC)、日月光(ASE)、意法(ST)、三星(Samsung)、美光(Micron)、格羅方德(GlobalFooundries)、IBM、英特爾(Intel)等多家公司皆已陸續投入3D IC的研發(fā)與生產(chǎn)。 建立3D IC+TSV產(chǎn)業(yè)鏈與技術(shù)可量產(chǎn)化仍需時(shí)間 國際半導體協(xié)會(huì )(SEMATECH)持續進(jìn)行3D TSV計劃，邀集格羅方德(Global Foudries)、惠普(HP)、IBM、英特爾(Intel)、三星(Samsung)、高通(Qualcomm)、臺積電(TSMC)、聯(lián)電(UMC)、Hynix、Atotech、NEXX、FRMC、CNSE等業(yè)界／學(xué)界合作，建構規格明確的3D產(chǎn)業(yè)鏈生態(tài)。三星以率先導入同質(zhì)性3D IC堆疊的桌上型堆疊式Wide I/O DRAM晶片(10~150W, 64GB/s)，與筆記型Wide I/O DRAM晶片(2~20W, 12.8GB/s)。高通(Qualcomm)、博通(BroadComm)等IC設計業(yè)者也已導入3D TSV技術(shù)，來(lái)設計下一代更高密集度的IC。 日月光集團(ASE)指出，3D IC仍面臨到像設計復雜、EDA工具欠缺、異質(zhì)矽電路整合、系統的設計流程、TSV電氣特性、系統驗證、熱功率與靜電防護等挑戰。目前除了Si2、JEDEC、SEMI、Sematech、GSA等組織制定3D IC相關(guān)產(chǎn)業(yè)規范以外，ASE采用SEMI規范平臺的3DS-IC標準，并與Design House、Foundry積極合作，完成Die to Die、Die to SiP疊合互連規范，以及3D堆疊與計量與封裝信賴(lài)度確認，在Foundry、Memory house與封測廠(chǎng)之間，3D載板、夾具、握持程序，以及TSV晶圓、記憶體堆疊方式制定相關(guān)規范，參與既有業(yè)界解決方案如JEDEC JC-11 Wide I/O立體記憶晶片介面規范與3D QA與計量規范。 目前3D IC的整合應用，仍屬于相同制程、同質(zhì)性晶片(Homogenuous)整合，像是都是DRAM、NAND Flash裸晶，或多核心微處理器。IEK預期今年(2013)起采同質(zhì)堆疊的DRAM、NAND Flash等3D IC可望開(kāi)始進(jìn)入量產(chǎn)。至于要針對邏輯晶片(Logic)、記憶體晶片(DRAM)、射頻IC(RF)、功率放大器(PA)、光電轉換晶片等異質(zhì)性整合，則因為功耗、封裝材料系數等技術(shù)問(wèn)題的限制尚待克服，異質(zhì)性整合的3D IC是否能在2014年結束前導入量產(chǎn)，仍有待觀(guān)察。 |
