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ASML High-NA EUV光刻機取得重大突破：成功印刷10納米線(xiàn)寬圖案
三星認為High-NA EUV有利于邏輯芯片制造，但存儲器或面臨成本問(wèn)題
ASML和IMEC啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實(shí)驗室
ASML 首席技術(shù)官：明年將向客戶(hù)交付首臺 High-NA EUV 光刻機，光刻技術(shù)或走到盡頭
ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV 光刻機：體積和卡車(chē)相當，每臺售價(jià) 3 億美元
ASML回擊High-NA光刻機過(guò)于昂貴的指責， 稱(chēng)新技術(shù)是最具成本效益的解決方案
ASML 價(jià)值 3.5 億歐元的 High-NA EUV 光刻機已獲得 10~20 個(gè)訂單，預計到 2028 年可將年產(chǎn)量提高到 20 臺
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