適用于運輸領(lǐng)域的SiC:設計入門(mén)

發(fā)布時(shí)間:2023-4-19 21:54    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: 輔助動(dòng)力裝置 , APU , SiC
Microchip Technology Inc.
Tomas Krecek和Nitesh Satheesh

簡(jiǎn)介

在這篇文章中,作者分析了運輸輔助動(dòng)力裝置(APU)的需求,并闡述了SiC MOSFET、二極管及柵極驅動(dòng)器的理想靜態(tài)和動(dòng)態(tài)特性。

為什么使用寬帶隙(WBG)材料?

對于任何電力電子工程師來(lái)說(shuō),必須大致了解適用于功率半導體開(kāi)關(guān)器件的半導體物理學(xué)原理,以便掌握非理想器件的電氣現象及其對目標應用的影響。理想開(kāi)關(guān)在關(guān)斷時(shí)的電阻無(wú)窮大,導通時(shí)的電阻為零,并且可在這兩種狀態(tài)之間瞬間切換。從定量角度來(lái)看,由于基于MOSFET的功率器件是單極性器件,因此與這一定義最為接近。功率MOSFET結構中的導通狀態(tài)電流通過(guò)單極傳輸,這意味著(zhù)N溝道器件中只有電子。由于沒(méi)有少數載流子注入,因此在柵極偏壓降低到一定的閾值電壓以下后,電流會(huì )立即斷開(kāi)。

另一方面,雙極性器件可利用雙極性(電子-空穴)調制,將空穴注入基極,從而顯著(zhù)提高導通能力。這些“額外”注入的載流子必須在器件從導通狀態(tài)切換到關(guān)斷狀態(tài)時(shí)消除。這可通過(guò)以下兩種方法實(shí)現:一是通過(guò)柵極驅動(dòng)電流消除電荷,二是通過(guò)電子-空穴重組過(guò)程。雙極性器件的這種固有特點(diǎn)會(huì )造成顯著(zhù)的功率損失,從而降低開(kāi)關(guān)性能。因此,單極性器件更符合我們前文所述的三個(gè)理想條件之一,即理想的開(kāi)關(guān)可以在導通/關(guān)斷狀態(tài)之間瞬間切換。


圖1. 價(jià)帶和導帶之間較寬的能量帶隙可使SiC在關(guān)斷狀態(tài)下成為較好的隔離器,并且能減少MOSFET的厚度

如何改善另外兩個(gè)理想條件?

半導體器件內的電流必須流經(jīng)一個(gè)稱(chēng)為漂移區的區域(見(jiàn)圖2)。此區域的作用是完全阻斷關(guān)斷狀態(tài)下的額定電壓。阻斷電壓越高,需要的溝道長(cháng)度越長(cháng),從而導致電阻越大。這表明我們的理想功率開(kāi)關(guān)性能會(huì )隨著(zhù)標稱(chēng)電壓的升高而變差。

考慮到硅材料的特性,高于200V的標稱(chēng)電壓會(huì )因溝道過(guò)長(cháng)而頗具挑戰性(使器件在電氣性能上和經(jīng)濟效益上都失去優(yōu)勢)。在這種情況下,IGBT等雙極性器件的優(yōu)勢較大(實(shí)現了開(kāi)關(guān)權衡),寬帶隙半導體也是一種可以盡量減少不利影響的替代性技術(shù)解決方案。圖1重點(diǎn)介紹了寬價(jià)帶的優(yōu)勢(粒子不能占據這個(gè)帶區)!皩拵丁辈牧系闹饕獌(yōu)點(diǎn)在于,在阻斷模式下可成為較好的隔離器(更接近左側的隔離器),在導通模式下可成為極其出色的導體(Si和SiC的載流子流動(dòng)性都很高)。


圖2. 漂移區更窄是SiC的WBG特性的主要影響,這是導致總Rdson增大的最大因素。

目標應用中存在哪些寬帶隙優(yōu)勢?

我們已經(jīng)解釋過(guò),WBG半導體支持采用固有快速MOSFET結構,適合非常高的阻斷電壓。對于諧振模式下的直流-直流轉換器,這一點(diǎn)尤為實(shí)用。輸出特性圖(圖3a)給出了有關(guān)這類(lèi)器件導通性能的更多信息。Si-IGBT用作比較的參照物;我們可以看到,在某些交叉點(diǎn)上,當接近兩種器件的標稱(chēng)電流時(shí),SiC-MOSFET的固有性能更好(壓降更低)。這最終產(chǎn)生了一條平坦的效率曲線(xiàn),并且有利于任何主要在略高于標稱(chēng)功率的輕載條件下工作的轉換器。


圖3. 直接影響功率開(kāi)關(guān)選擇的三個(gè)最重要電氣特性

如圖3c中所示,SiC-MOSFET結構的第三象限(有時(shí)稱(chēng)為整流象限)工作模式有一個(gè)非常有趣的特點(diǎn)。在這種模式下,SiC-MOSFET可以用作二極管;蛘,如果我們導通溝道,則會(huì )開(kāi)啟器件并產(chǎn)生極小的導通損耗。這樣的開(kāi)關(guān)可用作雙向開(kāi)關(guān),在兩個(gè)方向上的性能幾乎相同。

柵極驅動(dòng)挑戰

更高的柵極電壓需求:通常,SiC器件具有較寬的帶隙以及較高的P型基極層濃度水平(見(jiàn)圖2),因此其柵極電壓閾值較高,這樣主要是為了避免擊穿。因此,要在SiC功率MOSFET中達到合理的柵極驅動(dòng)電壓以完全打開(kāi)溝道,會(huì )成為一種根本性的挑戰。在圖3b中,捕捉到了SiC-MOS和Si-IGBT的典型傳輸特性。讀者會(huì )發(fā)現,SiC-MOS的溝道打開(kāi)速度略微“緩慢”,在20V左右時(shí),Rdson達到最小值。鑒于此,柵極驅動(dòng)器應持續提供20V的柵極電壓,最好是可以進(jìn)行配置。

由于存在柵極電荷殘留,SiC-MOS結構中必須具有負偏壓,同樣,最好可以進(jìn)行配置以實(shí)現優(yōu)化。近乎理想的功率開(kāi)關(guān)和它們周?chē)姆庋b寄生元件(見(jiàn)圖4)的組合會(huì )引起過(guò)壓和振蕩。關(guān)鍵在于(a)盡量減少所有外部直流鏈路+連接+柵極路徑和內部雜散高級功率模塊的封裝元件,包括開(kāi)爾文型柵極連接;(b)利用優(yōu)化的SiC-MOS技術(shù);以及(c)在適用的情況下,采用先進(jìn)的柵極驅動(dòng)技術(shù),如圖4所示的有源柵極電壓控制(Augmented Switching™)。


圖4. 實(shí)現可靠、高效SiC-MOS驅動(dòng)的柵極驅動(dòng)器和封裝的主要假設

總結

憑借快速開(kāi)關(guān)和高壓操作的出色組合,SiC MOSFET成為輔助電源的理想選擇,尤其是其出色的第三象限工作模式,進(jìn)一步凸顯了其優(yōu)勢。隨著(zhù)電動(dòng)列車(chē)等新興技術(shù)的問(wèn)世,SiC MOSFET成為了更具吸引力的選擇,無(wú)論對軟開(kāi)關(guān)還是硬開(kāi)關(guān)均適用。借助可最大限度地減少寄生效應的高級封裝技術(shù)和數字柵極驅動(dòng)技術(shù),這些強大的器件能夠充分發(fā)揮全部?jì)?yōu)勢。

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