影響SiC MOSFET閾值電壓不穩定的因素有哪些?

發(fā)布時(shí)間:2025-4-28 16:14    發(fā)布者:whpssins
關(guān)鍵詞: SiC , mos , 閾值電壓
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從硅基(Si)到碳化硅(SiC)MOS的技術(shù)發(fā)展與進(jìn)步進(jìn)程來(lái)看,面臨的最大挑戰是解決產(chǎn)品可靠性問(wèn)題,而在諸多可靠性問(wèn)題中尤以器件閾值電壓(Vth)的漂移最為關(guān)鍵,是近年來(lái)眾多科研工作關(guān)注的焦點(diǎn),也是評價(jià)各家    SiC MOSFET 產(chǎn)品技術(shù)可靠性水平的核心參數。

碳化硅SiC  MOSFET的閾值電壓穩定性相對Si材料來(lái)講,是比較差的,對應用端的影響也很大。由于晶體結構的差異,相比于硅器件,SiO2-SiC   界面存在大量的界面態(tài),它們會(huì )使閾值電壓在電熱應力的作用下發(fā)生漂移,在高溫下漂移更明顯,將嚴重影響器件在系統端應用的可靠性。

由于SiC  MOSFET與Si MOSFET特性的不同,SiC  MOSFET的閾值電壓具有不穩定性,在器件測試過(guò)程中閾值電壓會(huì )有明顯漂移,導致其電性能測試以及高溫柵偏試驗后的電測試結果嚴重依賴(lài)于測試條件。因此SiC  MOSFET閾值電壓的準確測試,對于指導用戶(hù)應用,評價(jià)SiC MOSFET技術(shù)狀態(tài)具有重要意義。


根據第三代半導體產(chǎn)業(yè)技術(shù)戰略聯(lián)盟目前的研究表明,導致SiC  MOSFET的閾值電壓不穩定的因素有以下幾種:
1、柵壓偏置
通常情況下,負柵極偏置應力會(huì )增加正電性氧化層陷阱的數量,導致器件閾值電壓的負向漂移,而正柵極偏置應力使得電子被氧化層陷阱俘獲、界面陷阱密度增加,導致器件閾值電壓的正向漂移。
2、測試時(shí)間
高溫柵偏試驗中采用閾值電壓快速測試方法,能夠觀(guān)測到更大比例受柵偏置影響改變電荷狀態(tài)的氧化層陷阱。反之,越慢的測試速度,測試過(guò)程越可能抵消之前偏置應力的效果。
3、柵壓掃描方式
SiC   MOSFET高溫柵偏閾值漂移機理分析表明,偏置應力施加時(shí)間決定了哪些氧化層陷阱可能會(huì )改變電荷狀態(tài),應力施加時(shí)間越長(cháng),影響到氧化層中陷阱的深度越深,應力施加時(shí)間越短,氧化層中就有越多的陷阱未受到柵偏置應力的影響。
4、測試時(shí)間間隔
國際上有很多相關(guān)研究表明,SiC   MOSFET閾值電壓的穩定性與測試延遲時(shí)間是強相關(guān)的,研究結果顯示,用時(shí)100µs的快速測試方法得到的器件閾值電壓變化量以及轉移特性曲線(xiàn)回滯量比耗時(shí)1s的測試方法大4倍。
5、溫度條件
在高溫條件下,熱載流子效應也會(huì )引起有效氧化層陷阱數量波動(dòng),或使SiC   MOSFET氧化層陷阱數量增加,最終引起器件多項電性能參數的不穩定和退化,例如平帶電壓VFB和VT漂移等。


  根據JEDEC  JEP183:2021《測量SiC MOSFETs閾值電壓(VT)的指南》、T_CITIIA   109-2022《電動(dòng)車(chē)輛用碳化硅金屬氧化物半導體場(chǎng)效應晶體管(SiC MOSFET)模塊技術(shù)規范》、T/CASA 006-2020    《碳化硅金屬氧化物半導體場(chǎng)效應晶體管通用技術(shù)規范》等要求,目前,武漢普賽斯儀表自主開(kāi)發(fā)出適用于碳化硅(SiC)功率器件閾值電壓測試及其它靜態(tài)參數測試的系列源表產(chǎn)品,覆蓋了現行所有可靠性測試方法。

針對硅基(Si)以及碳化硅(SiC)等功率器件靜態(tài)參數低壓模式的測量,建議選用P系列高精度臺式脈沖源表。P系列脈沖源表是普賽斯在經(jīng)典S系列直流源表的基礎上打造的一款高精度、大動(dòng)態(tài)、數字觸摸源表,匯集電壓、電流輸入輸出及測量等多種功能,最大輸出電壓達300V,最大脈沖輸出電流達10A,支持四象限工作,被廣泛應用于各種電氣特性測試中。
1、P300高精度脈沖源表
-    脈沖直流,簡(jiǎn)單易用
-    范圍廣,高至300V低至1pA
-    最小脈沖寬度200μs
-    準確度為0.1%

[color=rgba(0, 0, 0, 0.9)]針對高壓模式的測量,普賽斯儀表推出的E系列高壓程控電源具有輸出及測量電壓高(3500V)、能輸出及測量微弱電流信號(1nA)、輸出及測量電流0-100mA等特點(diǎn)。產(chǎn)品可以同步電流測量,支持恒壓恒流工作模式,同事支持豐富的IV掃描模式。E系列高壓程控電源可應用于IGBT擊穿電壓測試、IGBT動(dòng)態(tài)測試母線(xiàn)電容充電電源、IGBT老化電源、防雷二極管耐壓測試等場(chǎng)合。其恒流模式對于快速測量擊穿點(diǎn)具有重大意義。
[color=rgba(0, 0, 0, 0.9)]2、E系列高電壓源測單元
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-    ms級上升沿和下降沿
-    單臺最大3500V電壓輸出(可擴展10kV)
-    測量電流低至1nA
-    準確度為0.1%
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[color=rgba(0, 0, 0, 0.9)]針對二極管、IGBT器件、IPM模塊等需要高電流的測試場(chǎng)合,普賽斯HCPL系列高電流脈沖電源,具有輸出電流大(1000A)、脈沖邊沿陡(15μs)、支持兩路脈沖電壓測量(峰值采樣)以及支持輸出極性切換等特點(diǎn)。
[color=rgba(0, 0, 0, 0.9)]3、HCPL100高電流脈沖電源
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-    輸出電流達1000A
-    多臺并聯(lián)可達6000A
-    50μs-500μs的脈沖寬度可調
-    脈沖邊沿陡(典型時(shí)間15us)
-    兩路同步測量電壓(0.3mV-18V)
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[color=rgba(0, 0, 0, 0.9)]未來(lái),普賽斯儀表基于國產(chǎn)化高精度數字源表(SMU)的測試方案,以更優(yōu)的測試能力、更準確的測量結果、更高的可靠性與更全面的測試能力,聯(lián)合更多行業(yè)客戶(hù),共同助力我國半導體功率器件高可靠高質(zhì)量發(fā)展

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